氧化锌薄膜的制备与场发射特性研究
摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-15页 |
第一章 引言 | 第15-22页 |
·薄膜材料简介 | 第15-16页 |
·氧化锌概述 | 第16-17页 |
·氧化锌的晶体结构 | 第16-17页 |
·氧化锌的基本特征 | 第17页 |
·氧化锌薄膜的应用 | 第17-19页 |
·氧化锌薄膜的研究进展 | 第19-20页 |
·研究的目的及意义 | 第20-22页 |
第二章 氧化锌样品的制备 | 第22-30页 |
·氧化锌薄膜的制备 | 第22-26页 |
·磁控溅射 | 第26-28页 |
·磁控溅射方法 | 第26-27页 |
·磁控溅射工作原理 | 第27页 |
·磁控溅射镀膜的特点 | 第27-28页 |
·样品制备 | 第28-30页 |
·实验设备 | 第28页 |
·基片清洗 | 第28页 |
·磁控溅射镀膜过程 | 第28-30页 |
第三章 样品的测试与表征 | 第30-53页 |
·扫描电镜观察制备样品表面形貌 | 第30-33页 |
·扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
·样品形貌 | 第31-33页 |
·X-射线衍射测量 | 第33-46页 |
·X-射线衍射 | 第33页 |
·氧化锌的面间距和密勒指数 | 第33-38页 |
·氧化锌薄膜样品的X.射线衍射测量与分析 | 第38-46页 |
·拉曼光谱测量 | 第46-53页 |
·拉曼散射的原理 | 第46-47页 |
·拉曼散射的应用 | 第47页 |
·氧化锌薄膜样品的拉曼散射测量与分析 | 第47-53页 |
第四章 场发射特性研究 | 第53-60页 |
·平板显示及场发射显示技术 | 第53-54页 |
·场发射理论 | 第54-55页 |
·场发射测试系统 | 第55-56页 |
·气体分压和溅射压强对氧化锌薄膜场发射特性的影响 | 第56-60页 |
·气体分压对氧化锌薄膜场发射特性的影响 | 第56-57页 |
·溅射压强对氧化锌薄膜场发射特性的影响 | 第57-60页 |
第五章 结论 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
附录(攻读学位期间发表论文目录) | 第67-68页 |