二氧化钛/金属/ITO玻璃（硅）薄膜的制备及电学特性研究

摘要	第1-8页
Abstract	第8-15页
第一章 引言	第15-22页
·薄膜材料的研究进展	第15-16页
·二氧化钛薄膜概述	第16-20页
·二氧化钛的结构	第16-17页
·二氧化钛薄膜的性质和应用	第17-20页
·二氧化钛薄膜的相关研究现状	第20页
·研究目的及意义	第20-22页
第二章 薄膜的制备	第22-29页
·磁控溅射原理概述	第22-24页
·溅射镀膜简介	第22-23页
·磁控溅射的基本原理	第23-24页
·薄膜制备的基本程序	第24-29页
·基片的清洗	第24-25页
·溅射用的靶材	第25页
·镀膜的程序	第25-29页
第三章 二氧化钛薄膜结构相变	第29-52页
·实验条件	第30页
·薄膜的表征测试	第30-39页
·X射线衍射分析(XRD)	第30-35页
·拉曼光谱分析(Raman)	第35-39页
·溅射参数对二氧化钛薄膜相结构的影响	第39-47页
·氧气含量对二氧化钛薄膜相结构的影响	第39-42页
·溅射压强对二氧化钛薄膜结构的影响	第42-43页
·沉积功率对二氧化钛薄膜结构的影响	第43-44页
·沉积时间对二氧化钛薄膜结构的影响	第44-45页
·衬底温度对二氧化钛薄膜结构的影响	第45-47页
·金红石和锐钛矿的最佳生成条件	第47页
·二氧化钛/金属/ITO玻璃多层薄膜	第47-52页
·二氧化钛/铝/ITO玻璃多层膜的制备研究	第47-49页
·二氧化钛/钛/ITO玻璃多层膜的制备研究	第49-52页
第四章 二氧化钛薄膜的电学特性研究	第52-57页
第五章 结论	第57-59页
参考文献	第59-63页
致谢	第63-65页
附录A:攻读硕士学位期间发表论文目录	第65-66页