间歇反应釜三阶段温度控制系统研究与应用
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 反应釜温度控制的难点问题 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外研究现状与发展趋势 | 第10-11页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第11-12页 |
| 第二章 间歇反应釜温度控制过程研究 | 第12-26页 |
| 2.1 间歇反应釜结构与工艺特性 | 第12-14页 |
| 2.2 反应釜的动态特性 | 第14-17页 |
| 2.2.1 温度对反应速度的影响 | 第14页 |
| 2.2.2 搅拌速度对传热的影响 | 第14-15页 |
| 2.2.3 反应釜温度动态方程 | 第15-16页 |
| 2.2.4 冷却剂流量对反应釜温度的传递函数 | 第16-17页 |
| 2.3 反应釜温度控制系统数学模型建立 | 第17-19页 |
| 2.3.1 机理模型建立 | 第17-18页 |
| 2.3.2 简化的模型 | 第18-19页 |
| 2.4 反应釜三阶段温度控制策略研究 | 第19-24页 |
| 2.4.1 PID控制算法 | 第20-21页 |
| 2.4.2 积分分离控制算法 | 第21-22页 |
| 2.4.3 模糊控制算法 | 第22-23页 |
| 2.4.4 提高模糊控制精度的插值算法 | 第23-24页 |
| 2.5 本章小节 | 第24-26页 |
| 第三章 聚羧酸减水剂合成控制系统方案设计 | 第26-36页 |
| 3.1 聚羧酸减水剂合成工艺流程概述 | 第26-27页 |
| 3.2 控制回路介绍及功能分析 | 第27-28页 |
| 3.3 温度控制指标 | 第28-29页 |
| 3.4 温度控制策略选择 | 第29-30页 |
| 3.5 插值模糊控制器设计 | 第30-35页 |
| 3.5.1 模糊控制器设计 | 第30-34页 |
| 3.5.2 仿真分析 | 第34-35页 |
| 3.6 本章小节 | 第35-36页 |
| 第四章 聚羧酸减水剂合成控制系统硬件设计 | 第36-50页 |
| 4.1 控制系统总体设计 | 第36-39页 |
| 4.2 硬件选型 | 第39-42页 |
| 4.2.1 控制系统硬件 | 第39-41页 |
| 4.2.2 现场仪表 | 第41-42页 |
| 4.3 控制柜设计 | 第42-45页 |
| 4.4 网络通讯设计 | 第45-46页 |
| 4.5 WinCC与S7-300之间通讯实现 | 第46-48页 |
| 4.6 本章小节 | 第48-50页 |
| 第五章 聚羧酸减水剂合成控制系统软件开发 | 第50-62页 |
| 5.1 控制程序开发 | 第50-53页 |
| 5.1.1 控制系统程序结构 | 第50页 |
| 5.1.2 主程序设计 | 第50-52页 |
| 5.1.3 子程序设计 | 第52-53页 |
| 5.2 反应釜温度控制的实现 | 第53-56页 |
| 5.3 上位机组态界面开发 | 第56-61页 |
| 5.3.1 上位机监控系统设计原则 | 第56-57页 |
| 5.3.2 上位机监控系统的功能 | 第57-61页 |
| 5.4 本章小节 | 第61-62页 |
| 第六章 工程实施及测试分析 | 第62-68页 |
| 6.1 工程实施 | 第62-63页 |
| 6.2 系统功能测试 | 第63-66页 |
| 6.3 温度运行曲线分析 | 第66-67页 |
| 6.4 本章小节 | 第67-68页 |
| 第七章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
