| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 半导体光催化技术 | 第13-17页 |
| 1.1.1 半导体光催化研究背景 | 第13页 |
| 1.1.2 半导体光催化基本原理 | 第13-14页 |
| 1.1.3 半导体光催化剂的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.1.4 半导体光催化应用研究 | 第15-17页 |
| 1.2 可见光光催化材料 | 第17页 |
| 1.3 BiVO_4的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.3.1 BiVO_4的结构与性能 | 第17-18页 |
| 1.3.2 m-BiVO_4的合成及光催化性能研究 | 第18-19页 |
| 1.4 氧化钨的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.4.1 氧化钨的结构 | 第19-20页 |
| 1.4.2 氧化钨的合成及光催化性能研究 | 第20页 |
| 1.5 课题研究内容与创新性 | 第20-22页 |
| 1.5.1 课题研究内容 | 第20-21页 |
| 1.5.2 课题创新性 | 第21-22页 |
| 2 m-BiVO_4的微形貌控制及可见光催化性能研究 | 第22-36页 |
| 2.1 前言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.2.1 实验试剂及所用仪器设备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 不同形貌m-BiVO_4的制备方法 | 第23-24页 |
| 2.2.3 m-BiVO_4的表征方法与表征仪器 | 第24页 |
| 2.2.4 m-BiVO_4的光催化活性测定 | 第24-25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-34页 |
| 2.3.1 X-射线衍射分析（XRD） | 第25-26页 |
| 2.3.2 扫描电镜分析（SEM） | 第26-28页 |
| 2.3.3 不同形貌形成机理 | 第28-29页 |
| 2.3.4 紫外-可见漫反射 | 第29-31页 |
| 2.3.5 样品的可见光催化活性 | 第31-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 3 不同煅烧温度下m-BiVO_4的制备及可见光催化性能研究 | 第36-47页 |
| 3.1 前言 | 第36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 3.2.1 实验试剂及所用仪器设备 | 第36页 |
| 3.2.2 不同煅烧温度下花生状m-BiVO_4的制备方法 | 第36-37页 |
| 3.2.3 m-BiVO_4的表征方法与表征仪器 | 第37页 |
| 3.2.4 m-BiVO_4的光催化活性测定 | 第37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-46页 |
| 3.3.1 X-射线衍射分析（XRD） | 第37-38页 |
| 3.3.2 扫描电镜分析（SEM） | 第38-40页 |
| 3.3.3 水热时间对BiVO_4形貌的影响 | 第40页 |
| 3.3.4 紫外-可见漫反射 | 第40-42页 |
| 3.3.5 样品的可见光催化活性 | 第42-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 线团状WO_3·0.33H_2O的制备与光催化性能研究 | 第47-55页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.2.1 实验试剂及所用仪器设备 | 第47页 |
| 4.2.2 WO_3·0.33H_2O光催化剂的制备方法 | 第47-48页 |
| 4.2.3 WO_3·0.33H_2O的表征方法与表征仪器 | 第48页 |
| 4.2.4 WO_3·0.33H_2O的光催化活性测定 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-54页 |
| 4.3.1 扫描电镜（SEM）分析 | 第48-49页 |
| 4.3.2 X-射线衍射分析（XRD） | 第49-50页 |
| 4.3.3 比表面与孔径分析 | 第50-51页 |
| 4.3.4 X射线光电子能谱（XPS） | 第51-52页 |
| 4.3.5 紫外-可见漫反射 | 第52-53页 |
| 4.3.6 样品的可见光催化活性 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 W_(18)O_(49)纳米线簇的制备与光催化性能研究 | 第55-64页 |
| 5.1 前言 | 第55页 |
| 5.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 5.2.1 实验试剂及所用仪器设备 | 第55页 |
| 5.2.2 W_(18)O_(49)光催化剂的制备方法 | 第55页 |
| 5.2.3 W_(18)O_(49)的表征方法与表征仪器 | 第55-56页 |
| 5.2.4 W_(18)O_(49)的光催化活性测定 | 第56页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第56-62页 |
| 5.3.1 样品形貌分析 | 第56-58页 |
| 5.3.2 X-射线衍射分析（XRD） | 第58-59页 |
| 5.3.3 比表面与孔径分析 | 第59页 |
| 5.3.4 X射线光电子能谱（XPS） | 第59-60页 |
| 5.3.5 紫外-可见漫反射 | 第60-61页 |
| 5.3.6 样品的可见光催化活性 | 第61-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 6 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第75-76页 |
| 个人简历 | 第75页 |
| 学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
