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氟化光敏聚合物光交叉复用集成波导芯片研制

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 光纤通信及 DWDM 系统第11-13页
    1.2 Interleaver 技术的产生及分类第13-18页
        1.2.1 Interleaver 的分类第14-16页
        1.2.2 Interleaver 的国内外研究进展第16-18页
    1.3 AWG 型交叉复用器第18-21页
        1.3.1 AWG 型交叉复用器第18-19页
        1.3.2 AWG 型交叉复用器的研究进展第19-21页
    1.4 本论文的工作第21-23页
第二章 平面光波导器件的基本理论第23-35页
    2.1 AWG 的基本理论第23-30页
        2.1.1 AWG 的基本原理第23-25页
        2.1.2 AWG 的结构参数第25-30页
    2.2 热光开关基本理论第30-33页
        2.2.1 工作机理及波导模式分析第30-32页
        2.2.2 热场分析第32-33页
    2.3 多模干涉仪(MMI)第33-35页
第三章 波导材料的制备第35-44页
    3.1 波导芯层材料第35-41页
        3.1.1 光敏聚合物材料第35-37页
        3.1.2 氟化光敏聚合物材料第37-41页
    3.2 波导包层材料第41-44页
        3.2.1 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)第41页
        3.2.2 有机-无机复合型材料第41-44页
第四章 氟化光敏聚合物光交叉复用器的设计与制备第44-58页
    4.1 器件的结构及工作原理第44-52页
        4.1.1 器件的结构第44-46页
        4.1.2 器件的工作原理第46-49页
        4.1.3 器件的参数设计及理论模拟第49-52页
    4.2 器件的制备及测试第52-58页
        4.2.1 器件的制备及表征第52-55页
        4.2.2 器件的测试第55-58页
第五章 总结第58-60页
参考文献第60-66页
个人简介及科研成果第66-68页
致谢第68页

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