| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第10-15页 |
| 1.1 课题研究背景及研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外发展现状 | 第11-13页 |
| 1.2.1 损伤测试平台 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光学薄膜激光损伤 | 第12-13页 |
| 1.2.3 提高光学薄膜抗激光损伤阈值的方法 | 第13页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 激光辐照下光学薄膜的损伤机理 | 第15-23页 |
| 2.1 激光与材料相互作用 | 第15-16页 |
| 2.2 光学薄膜激光损伤机理 | 第16-20页 |
| 2.2.1 热致损伤 | 第16-18页 |
| 2.2.2 应力损伤 | 第18页 |
| 2.2.3 缺陷诱导光学薄膜的损伤 | 第18-19页 |
| 2.2.4 雪崩电离与多光子离化 | 第19-20页 |
| 2.3 影响光学薄膜损伤阈值的因素 | 第20-22页 |
| 2.3.1 波长效应 | 第20页 |
| 2.3.2 脉宽效应 | 第20-21页 |
| 2.3.3 光斑效应 | 第21页 |
| 2.3.4 累积效应 | 第21页 |
| 2.3.5 薄膜厚度 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 抗 1064nm固体激光损伤测试平台的搭建 | 第23-39页 |
| 3.1 损伤阈值的定义 | 第23-25页 |
| 3.2 损伤阈值的测量方式 | 第25页 |
| 3.3 激光的VRM模式 | 第25-27页 |
| 3.4 VRM模式下光斑的测量 | 第27-31页 |
| 3.4.1 热透镜效应 | 第27页 |
| 3.4.2 VRM模式下光斑的测量 | 第27-28页 |
| 3.4.3 平凹柱面镜整形 | 第28-31页 |
| 3.5 二元光学后镜模式下光斑的测量 | 第31-35页 |
| 3.5.1 二元光学元件 | 第31页 |
| 3.5.2 二元光学后镜模式下的光斑 | 第31-32页 |
| 3.5.3 热致退偏 | 第32页 |
| 3.5.4 热致退偏导致的光斑退化 | 第32-35页 |
| 3.6 激光能量、光斑测量及激光能量密度计算 | 第35-36页 |
| 3.6.1 激光能量实时测量 | 第35页 |
| 3.6.2 光斑测量及激光能量密度 | 第35-36页 |
| 3.7 损伤判断方法 | 第36-37页 |
| 3.8 本章小结 | 第37-39页 |
| 4 离子束溅射制备膜系抗激光损伤特性的研究 | 第39-53页 |
| 4.1 样品制备及损伤形貌表征 | 第39-40页 |
| 4.2 样品抗激光损伤实验 | 第40-41页 |
| 4.3 半波长保护层、缓冲层对增透膜损伤阈值的影响 | 第41-48页 |
| 4.3.1 增透膜膜系设计及驻波场分布 | 第41-42页 |
| 4.3.2 实验结果与讨论 | 第42-45页 |
| 4.3.3 增透膜前后表面损伤特性 | 第45-48页 |
| 4.4 S、P偏振光入射对45度高反膜损伤阈值的影响 | 第48-51页 |
| 4.4.1 膜系设计与驻波场分布 | 第48-50页 |
| 4.4.2 损伤阈值的测量及损伤形貌的观察 | 第50-51页 |
| 4.4.3 实验结果分析 | 第51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 5 总结与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 论文主要工作及成果 | 第53-54页 |
| 5.2 论文的不足之处 | 第54页 |
| 5.3 后续工作的展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第60页 |