| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 物理气相沉积 | 第10-13页 |
| 1.2.1 真空蒸发技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 分子束外延 | 第12页 |
| 1.2.3 溅射镀膜 | 第12-13页 |
| 1.3 磁控溅射技术 | 第13-20页 |
| 1.3.1 多靶共溅射 | 第16页 |
| 1.3.2 反应溅射 | 第16-18页 |
| 1.3.3 射频溅射 | 第18-19页 |
| 1.3.4 中频溅射和脉冲溅射 | 第19页 |
| 1.3.5 高速溅射和自溅射 | 第19-20页 |
| 1.3.6 离子束溅射 | 第20页 |
| 1.4 直流磁控溅射及能量过滤直流磁控溅射设备 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题的研究内容及选题意义 | 第21-26页 |
| 2 过滤电极网孔大小对TiO_2薄膜特性的影响 | 第26-36页 |
| 2.1 TiO_2薄膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.2 结果与分析 | 第28-35页 |
| 2.3 小结 | 第35-36页 |
| 3 过滤电极网孔大小对ITO薄膜特性的影响 | 第36-45页 |
| 3.1 ITO薄膜的制备 | 第36-37页 |
| 3.2 实验结果分析 | 第37-44页 |
| 3.3 小结 | 第44-45页 |
| 4 过滤电极网孔大小对ZnO薄膜特性的影响 | 第45-52页 |
| 4.1 ZnO薄膜的制备 | 第45-46页 |
| 4.2 结果与分析 | 第46-51页 |
| 4.3 小结 | 第51-52页 |
| 5 能量过滤磁控溅射技术制备TiO_2薄膜光学性能的均一性研究 | 第52-60页 |
| 5.1 TiO_2薄膜的制备 | 第52-53页 |
| 5.2 结果与分析 | 第53-58页 |
| 5.3 结论 | 第58-60页 |
| 6 结论与展望 | 第60-62页 |
| 6.1 结论 | 第60-61页 |
| 6.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历 | 第67页 |