| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 甲烷催化裂解反应研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3 Ni基催化剂 | 第14-15页 |
| 1.4 尖晶石MgAl_2O_4载体 | 第15-17页 |
| 1.5 理论研究甲烷表面反应的意义 | 第17-18页 |
| 1.6 本文选题思路及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-29页 |
| 第二章 基本理论方法 | 第29-47页 |
| 2.1 理论研究的意义 | 第29页 |
| 2.2 密度泛函理论基本原理 | 第29-40页 |
| 2.2.1 Kohn—Sham方程 | 第33-35页 |
| 2.2.2 局域密度近似(Local Density Approximation,LDA) | 第35-37页 |
| 2.2.3 广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation,GGA) | 第37-39页 |
| 2.2.4 自洽场计算 | 第39-40页 |
| 2.3 CASTEP软件简介 | 第40-43页 |
| 2.3.1 周期性边界条件和超胞方法 | 第41-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 Ni/MgAl_2O_4催化解离甲烷的理论研究：C-H键活化的晶面效应 | 第47-67页 |
| 3.1 引言 | 第47-49页 |
| 3.2 计算方法以及模型 | 第49-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-62页 |
| 3.3.1 MgAl_2O_4表面构型 | 第51-53页 |
| 3.3.2 MgAl_2O_4负载Ni_4团簇 | 第53-55页 |
| 3.3.3 分子吸附于Ni_4/MgAl_2O_4表面 | 第55-62页 |
| 3.4 本章结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 第四章 甲烷在Ni/MgAl_2O_4(100)完美和缺陷表面反应的理论研究 | 第67-87页 |
| 4.1 引言 | 第67-69页 |
| 4.2 计算方法以及模型 | 第69页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第69-83页 |
| 4.3.1 MgAl_2O_4完美表面和缺陷表面模型 | 第69-71页 |
| 4.3.2 MgAl_2O_4负载Ni_4团簇模型 | 第71-72页 |
| 4.3.3 完美表面的分子吸附与解离 | 第72-77页 |
| 4.3.4 缺陷表面的分子吸附与解离 | 第77-80页 |
| 4.3.5 反应势垒 | 第80-83页 |
| 4.4 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第五章 总结与展望 | 第87-89页 |
| 5.1 本论文的主要结论 | 第87-88页 |
| 5.2 本论文的创新点 | 第88页 |
| 5.3 展望 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第90-91页 |
| 附件 | 第91页 |
