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晶体硅光陷阱结构制备及其抗反射性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-16页
    1.1 太阳能电池概述第8-13页
        1.1.1 太阳能电池发展状况第8-11页
        1.1.2 太阳能电池原理第11-13页
    1.2 表面光陷阱结构在太阳能电池中的应用第13-14页
        1.2.1 表面光陷阱结构的起源第13页
        1.2.2 表面光陷阱结构的优势第13-14页
    1.3 本论文主要的研究内容第14-16页
第二章 单晶硅绒面光陷阱结构制备及其抗反射性能的研究第16-28页
    2.1 单晶硅绒面陷光原理第16-17页
    2.2 单晶硅绒面光陷阱结构的制备第17-19页
        2.2.1 单晶硅制绒原理第17页
        2.2.2 单晶硅制绒实验材料与设备第17-18页
        2.2.3 制绒前硅片清洗第18-19页
        2.2.4 单晶硅绒面腐蚀第19页
    2.3 单晶硅绒面光陷阱结构实验数据分析第19-27页
        2.3.1 异丙醇浓度对绒面制备的影响第21-23页
        2.3.2 反应温度对绒面制备的影响第23-25页
        2.3.3 腐蚀时间对绒面制备的影响第25-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 倒金字塔光陷阱结构制备及其抗反射性能的研究第28-39页
    3.1 单晶硅倒金字塔光陷阱结构简介第28-29页
    3.2 硅倒金字塔光陷阱结构制备第29-36页
        3.2.1 制备硅倒金字塔结构所需材料和设备第30页
        3.2.2 制备硅倒金字塔结构前硅片准备第30-31页
        3.2.3 掩膜图形制备第31-34页
        3.2.4 倒金字塔光陷阱结构腐蚀第34-36页
    3.3 倒金字塔光陷阱结构抗反射性能的研究第36-37页
    3.4 倒金字塔光陷阱结构工艺改进第37页
    3.5 本章小结第37-39页
第四章 宏孔硅光陷阱结构制备及其抗反射性能研究第39-51页
    4.1 宏孔硅孔光陷阱结构简介第39-40页
    4.2 宏孔硅光陷阱结构制备第40-44页
        4.2.1 制备宏孔硅光陷阱结构所需材料和设备第41页
        4.2.2 制备宏孔硅光陷阱结构前硅片准备第41页
        4.2.3 欧姆接触制备第41-42页
        4.2.4 诱导坑制备第42-43页
        4.2.5 光电化学腐蚀宏孔硅光陷阱结构第43-44页
    4.3 电压对孔道形貌的影响第44-45页
    4.4 腐蚀液中表面活性剂的影响第45-46页
    4.5 宏孔硅光陷阱结构样品抗反射性能的研究第46-49页
    4.6 不同光陷阱结构抗反射性能的对比第49页
    4.7 本章小结第49-51页
结论第51-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-56页
发表论文和科研情况说明第56页

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