| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 太阳能电池概述 | 第8-13页 |
| 1.1.1 太阳能电池发展状况 | 第8-11页 |
| 1.1.2 太阳能电池原理 | 第11-13页 |
| 1.2 表面光陷阱结构在太阳能电池中的应用 | 第13-14页 |
| 1.2.1 表面光陷阱结构的起源 | 第13页 |
| 1.2.2 表面光陷阱结构的优势 | 第13-14页 |
| 1.3 本论文主要的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 单晶硅绒面光陷阱结构制备及其抗反射性能的研究 | 第16-28页 |
| 2.1 单晶硅绒面陷光原理 | 第16-17页 |
| 2.2 单晶硅绒面光陷阱结构的制备 | 第17-19页 |
| 2.2.1 单晶硅制绒原理 | 第17页 |
| 2.2.2 单晶硅制绒实验材料与设备 | 第17-18页 |
| 2.2.3 制绒前硅片清洗 | 第18-19页 |
| 2.2.4 单晶硅绒面腐蚀 | 第19页 |
| 2.3 单晶硅绒面光陷阱结构实验数据分析 | 第19-27页 |
| 2.3.1 异丙醇浓度对绒面制备的影响 | 第21-23页 |
| 2.3.2 反应温度对绒面制备的影响 | 第23-25页 |
| 2.3.3 腐蚀时间对绒面制备的影响 | 第25-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 倒金字塔光陷阱结构制备及其抗反射性能的研究 | 第28-39页 |
| 3.1 单晶硅倒金字塔光陷阱结构简介 | 第28-29页 |
| 3.2 硅倒金字塔光陷阱结构制备 | 第29-36页 |
| 3.2.1 制备硅倒金字塔结构所需材料和设备 | 第30页 |
| 3.2.2 制备硅倒金字塔结构前硅片准备 | 第30-31页 |
| 3.2.3 掩膜图形制备 | 第31-34页 |
| 3.2.4 倒金字塔光陷阱结构腐蚀 | 第34-36页 |
| 3.3 倒金字塔光陷阱结构抗反射性能的研究 | 第36-37页 |
| 3.4 倒金字塔光陷阱结构工艺改进 | 第37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 宏孔硅光陷阱结构制备及其抗反射性能研究 | 第39-51页 |
| 4.1 宏孔硅孔光陷阱结构简介 | 第39-40页 |
| 4.2 宏孔硅光陷阱结构制备 | 第40-44页 |
| 4.2.1 制备宏孔硅光陷阱结构所需材料和设备 | 第41页 |
| 4.2.2 制备宏孔硅光陷阱结构前硅片准备 | 第41页 |
| 4.2.3 欧姆接触制备 | 第41-42页 |
| 4.2.4 诱导坑制备 | 第42-43页 |
| 4.2.5 光电化学腐蚀宏孔硅光陷阱结构 | 第43-44页 |
| 4.3 电压对孔道形貌的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 腐蚀液中表面活性剂的影响 | 第45-46页 |
| 4.5 宏孔硅光陷阱结构样品抗反射性能的研究 | 第46-49页 |
| 4.6 不同光陷阱结构抗反射性能的对比 | 第49页 |
| 4.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第56页 |