| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·Fe-N相概述 | 第11-13页 |
| ·课题研究背景 | 第13-17页 |
| ·超高饱和磁化强度Fe-N薄膜研究及应用背景 | 第13-15页 |
| ·γ'-Fe_4N研究及应用背景 | 第15-17页 |
| 第二章 实验方法 | 第17-30页 |
| ·脉冲激光沉积设备概述 | 第17-18页 |
| ·PLD技术原理和特点 | 第18-20页 |
| ·样品制备 | 第20页 |
| ·分析测试技术 | 第20-30页 |
| ·X-ray衍射(XRD) | 第20-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第24页 |
| ·超导量子磁强计(SQUID) | 第24-25页 |
| ·穆斯堡尔谱(Mossbauer spectroscopy) | 第25-28页 |
| ·磁光克尔效应(MOKE) | 第28-30页 |
| 第三章 不同氮气气氛压力下制备Fe-N薄膜 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验方法 | 第30-34页 |
| ·实验结果和讨论 | 第34-42页 |
| ·薄膜相成分和磁性能与氮气气氛压力的关系 | 第34-36页 |
| ·SQUID磁性能测试 | 第36-38页 |
| ·转换电子穆斯堡尔谱(CEMS)测试 | 第38-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第四章 γ'-Fe_4N薄膜研究 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验方法 | 第42-45页 |
| ·实验结果和讨论 | 第45-53页 |
| ·基片温度对γ'-Fe_4N生长的影响 | 第45-47页 |
| ·γ'-Fe_4N薄膜的磁性能 | 第47-49页 |
| ·γ'-Fe_4N薄膜的垂直磁各向异性 | 第49-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 第五章 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录 | 第61-66页 |
| 1. 单晶硅片清洗流程—RCA方法 | 第61-63页 |
| 2. PLD系统光路调节 | 第63-64页 |
| 3. PLD系统激光入射窗口(laser view port windows)防污染设计 | 第64-66页 |
| 个人简历 | 第66-67页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第67页 |