| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·透明导电氧化物研究背景 | 第10-11页 |
| ·研究现状和进展 | 第11-13页 |
| ·CuAlO_2的晶体结构和电子结构 | 第13-15页 |
| ·p型CuAlO_2的性能 | 第15-16页 |
| ·CuAlO_2的光学性能 | 第15页 |
| ·CuAlO_2的电学性能 | 第15-16页 |
| ·CuAlO_2的其他性能 | 第16页 |
| ·p型CuAlO_2的制备方法 | 第16-20页 |
| ·p型CuAlO_2薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17页 |
| ·溅射法 | 第17-19页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第19页 |
| ·p型CuAlO_2粉末的制备方法 | 第19-20页 |
| ·水热法 | 第19-20页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第20页 |
| ·CuAlO_2材料的应用前景 | 第20-23页 |
| ·透明太阳能电池和LED | 第20-22页 |
| ·臭氧传感器 | 第22-23页 |
| ·本论文研究思路和内容 | 第23-25页 |
| 第二章 薄膜样品的制备方法和性能表征方法 | 第25-35页 |
| ·磁控溅射设备 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射辉光放电原理 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积技术(PLD) | 第27-30页 |
| ·PLD技术优缺点 | 第30页 |
| ·薄膜制备 | 第30-33页 |
| ·靶材的制备 | 第30-31页 |
| ·衬底的清洗 | 第31页 |
| ·薄膜样品的制备过程 | 第31-33页 |
| ·磁控溅射制备薄膜样品 | 第31-32页 |
| ·PLD制备薄膜样品 | 第32-33页 |
| ·样品的性能表征 | 第33-35页 |
| 第三章 CuAlO_2薄膜的组织结构 | 第35-46页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·靶材制备及成份分析 | 第35-37页 |
| ·水热法合成CuAlO_2粉末 | 第37-39页 |
| ·薄膜的样品制备以及成份分析 | 第39-43页 |
| ·CuAlO_2薄膜的退火处理与性能研究 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 磁控溅射法生长CuAlO_2薄膜及性能研究 | 第46-66页 |
| ·衬底温度对CuAlO_2薄膜的影响 | 第46-51页 |
| ·结构分析 | 第46-48页 |
| ·表面形貌分析 | 第48-49页 |
| ·光学性能 | 第49-51页 |
| ·生长时间对CuAlO_2薄膜的影响 | 第51-54页 |
| ·结构分析 | 第52-53页 |
| ·表面形貌分析 | 第53-54页 |
| ·溅射功率对CuAlO_2薄膜的影响 | 第54-58页 |
| ·结构分析 | 第54-55页 |
| ·表面形貌分析 | 第55-56页 |
| ·光学性能 | 第56-58页 |
| ·氩氧比对CuAlO_2薄膜的影响 | 第58-59页 |
| ·结构分析 | 第58-59页 |
| ·表面形貌分析 | 第59页 |
| ·溅射压强对CuAlO_2薄膜的影响 | 第59-61页 |
| ·结构分析 | 第60页 |
| ·表面形貌分析 | 第60-61页 |
| ·衬底对CuAlO_2薄膜的影响 | 第61-63页 |
| ·结构分析 | 第61-63页 |
| ·表面形貌分析 | 第63页 |
| ·CuAlO_2薄膜的电学性能 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 CuAlO_2薄膜的光致发光性能研究 | 第66-76页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·磁控溅射法制备的CuAlO_2薄膜的光致发光性能 | 第66-67页 |
| ·PLD方法制备CuAlO_2薄膜 | 第67-69页 |
| ·PLD法制备的CuAlO_2薄膜的光致发光性能研究 | 第69-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第六章 结论与展望 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| ·展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 个人简历 | 第87-88页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第88页 |
