| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-36页 |
| ·硅纳米晶体的性质 | 第12-14页 |
| ·硅纳米晶体的光学性质 | 第12-13页 |
| ·硅纳米晶体的电学性质 | 第13-14页 |
| ·硅纳米晶体的热学性质 | 第14页 |
| ·硅纳米晶体的掺杂 | 第14-19页 |
| ·半导体纳米晶体的掺杂 | 第15-17页 |
| ·硅纳米晶体的掺杂 | 第17-19页 |
| ·纳米晶体半导体的成膜及其薄膜晶体管的制备 | 第19-29页 |
| ·其他纳米晶体半导体的成膜及其在薄膜晶体管上的应用 | 第20-26页 |
| ·硅纳米晶体的成膜及其在薄膜晶体管上的应用 | 第26-29页 |
| ·基于硅纳米晶体的块体材料 | 第29-33页 |
| ·纳米晶体结构块体材料简介 | 第29-31页 |
| ·基于硅纳米晶体的块体材料 | 第31-33页 |
| ·本论文的研究目的和研究内容 | 第33-36页 |
| 第三章 实验内容和测试仪器 | 第36-42页 |
| ·实验方案 | 第36-37页 |
| ·硅纳米晶体的合成与表征 | 第36页 |
| ·硅纳米晶体的成膜及其薄膜晶体管的制备 | 第36页 |
| ·硅纳米级晶体的块体成型 | 第36-37页 |
| ·结构表征设备 | 第37-38页 |
| ·X射线衍射 | 第37页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第37-38页 |
| ·透射电子显微镜 | 第38页 |
| ·电学性能测试设备 | 第38-39页 |
| ·薄膜晶体管输出和转移特性曲线的测试 | 第38-39页 |
| ·霍尔测试系统 | 第39页 |
| ·成膜以及块体成型相关设备 | 第39-42页 |
| ·直流磁控溅射沉积电极薄膜 | 第39-40页 |
| ·高真空热压烧结炉 | 第40页 |
| ·旋涂仪 | 第40页 |
| ·真空手套、超声仪 | 第40-42页 |
| 第四章 硅纳米晶体的制备与表征 | 第42-50页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·等离子体法 | 第43-44页 |
| ·等离子体简介 | 第43-44页 |
| ·冷等离子体合成硅纳米颗粒的优点 | 第44页 |
| ·冷等离子体法硅纳米晶体的合成 | 第44-49页 |
| ·冷等离子体合成系统简介 | 第44-45页 |
| ·不同粒径本征硅纳米晶体的合成 | 第45-46页 |
| ·掺磷和掺硼的硅纳米晶体颗粒的制备 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 硅纳米晶体的成膜及其薄膜晶体管的制备 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·关于薄膜晶体管的相关知识 | 第51-54页 |
| ·实验过程 | 第54-55页 |
| ·基于溶液法的薄膜晶体管的制备 | 第54页 |
| ·基于全气相法的薄膜晶体管的制备 | 第54-55页 |
| ·沟道层结构的表征以及器件电学性能的测量 | 第55页 |
| ·结果分析与讨论 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-62页 |
| 第六章 利用硅纳米晶体制备块体材料 | 第62-76页 |
| ·引言 | 第62-63页 |
| ·实验部分 | 第63-64页 |
| ·硅纳米晶体颗粒的制备 | 第63页 |
| ·硅纳米晶体颗粒的热压成型 | 第63-64页 |
| ·基于硅纳米晶体的块体材料的表征和测试 | 第64页 |
| ·数据分析与讨论 | 第64-74页 |
| ·基于硅纳米晶体的块体材料的结构表征 | 第64-68页 |
| ·利用硅纳米晶体所制备块体材料的致密度分析 | 第68-70页 |
| ·利用硅纳米晶体所制备块体材料的载流子浓度分析 | 第70-72页 |
| ·利用硅纳米晶体所制备块体材料的电阻率分析 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第七章 全文结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 个人简历 | 第90-92页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第92页 |