| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| §1.1 概述 | 第12页 |
| §1.2 ZnO的基本性质 | 第12-14页 |
| §1.3 ZnO薄膜的特性和应用 | 第14-17页 |
| ·ZnO薄膜 | 第14页 |
| ·ZnO薄膜的特性和应用 | 第14-17页 |
| §1.4 ZnO材料的研究进展及其研究现状 | 第17-22页 |
| ·ZnO纳米结构的生长与应用的研究 | 第18-19页 |
| ·优质ZnO薄膜的生长研究 | 第19页 |
| ·掺杂ZnO的研究 | 第19-21页 |
| ·ZnO半导体器件的研究 | 第21-22页 |
| §1.5 本论文选题背景和主要研究内容 | 第22-24页 |
| ·hcp缓冲层对ZnO薄膜微观结构和光学特性影响的研究 | 第22页 |
| ·Ti缓冲层对ZnO薄膜微观结构和光学特性影响的研究 | 第22页 |
| ·Fe掺杂对ZnO薄膜微观结构和光学特性影响的研究 | 第22-24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备和测试表征方法 | 第27-37页 |
| §2.1 ZnO薄膜的制备 | 第27-31页 |
| ·溅射法简介 | 第27页 |
| ·磁控溅射法制膜原理 | 第27-28页 |
| ·设备和实验工艺 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射法制膜的优缺点和应用 | 第30-31页 |
| §2.2 本论文中ZnO薄膜微观结构的表征和光学性能测试 | 第31-35页 |
| ·薄膜的结构分析-X射线衍射(XRD)法 | 第32-33页 |
| ·薄膜形貌表征-扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| ·薄膜光学性质分析-紫外分光光度计和荧光分光光度计 | 第34-35页 |
| §2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 hcp缓冲层对ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第37-46页 |
| §3.1 制备工艺和基本参数 | 第37-38页 |
| §3.2 hcp缓冲层对ZnO薄膜微结构和光学特性的影响 | 第38-43页 |
| ·hcp缓冲层对ZnO薄膜微观结构的影响 | 第38-40页 |
| ·hcp缓冲层对ZnO薄膜光学特性的影响 | 第40-43页 |
| §3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第四章 Ti缓冲层对ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第46-57页 |
| §4.1 Ti缓冲层和ZnO薄膜的制备与表征方法 | 第47页 |
| §4.2 Ti缓冲层对ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第47-54页 |
| ·Ti缓冲层对ZnO薄膜微观结构的影响 | 第47-49页 |
| ·Ti缓冲层对ZnO薄膜光学性能的影响 | 第49-54页 |
| §4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第五章 Fe掺杂对ZnO薄膜微结构和光学特性影响的研究 | 第57-68页 |
| §5.1 ZnO:Fe薄膜的制备和表征方法 | 第57-58页 |
| §5.2 ZnO:Fe薄膜微观结构的表征及光学特性的研究 | 第58-65页 |
| ·衬底温度对ZnO:Fe薄膜微观结构的影响 | 第58-61页 |
| ·衬底温度对ZnO:Fe薄膜光学特性的影响 | 第61-65页 |
| §5.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
| §6.1 总结 | 第68-69页 |
| §6.2 展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71页 |
