| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·多孔硅材料简介 | 第14-15页 |
| ·氧化锌材料简介 | 第15-18页 |
| ·本论文的选题背景与主要研究内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 多孔硅与ZnO薄膜的制备技术 | 第22-31页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第22-23页 |
| ·电化学腐蚀法 | 第22-23页 |
| ·光化学腐蚀法 | 第23页 |
| ·水热腐蚀法 | 第23页 |
| ·火花腐蚀法 | 第23页 |
| ·多孔硅的主要结构参数 | 第23-24页 |
| ·多孔硅的孔隙率 | 第23-24页 |
| ·多孔硅膜层厚度 | 第24页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第24-26页 |
| ·耗尽层与场强化模型 | 第24页 |
| ·硅腐蚀与量子限制模型 | 第24-25页 |
| ·载流子扩散模型 | 第25页 |
| ·多孔硅样品的发光原理 | 第25-26页 |
| ·ZnO的常用制备方法 | 第26-29页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第27页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第28页 |
| ·分子束外延法 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-31页 |
| 第三章 本论文实验样品的制备与表征 | 第31-43页 |
| ·本论文实验样品的制备 | 第31-37页 |
| ·多孔硅的制备 | 第31-32页 |
| ·ZnO/PS和ZnO:Cu/PS纳米复合薄膜的制备 | 第32-35页 |
| ·不同基底与Cu掺杂ZnO薄膜的制备 | 第35-37页 |
| ·本论文实验样品的表征 | 第37-42页 |
| ·X射线衍射表征技术 | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜表征技术 | 第38-39页 |
| ·透射吸收谱表征技术 | 第39-40页 |
| ·光致发光谱表征技术 | 第40页 |
| ·Raman散射表征技术 | 第40-41页 |
| ·傅里叶红外吸收表征技术 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第四章 Cu掺杂浓度对ZnO/PS微结构和光学性质的影响 | 第43-56页 |
| ·Cu掺杂浓度对ZnO/PS微结构的影响 | 第43-47页 |
| ·Cu掺杂浓度对ZnO/PS光学性质的影响 | 第47-53页 |
| ·Cu掺杂浓度对ZnO/PS光致发光的影响 | 第47-50页 |
| ·Cu掺杂浓度对光吸收谱的影响 | 第50-51页 |
| ·Cu掺杂浓度对拉曼散射谱的影响 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第五章 基底与Cu掺杂对ZnO微结构和光学性质的影响 | 第56-68页 |
| ·基底与Cu掺杂对ZnO微结构的影响 | 第56-59页 |
| ·基底与Cu掺杂对ZnO光学性质的影响 | 第59-64页 |
| ·傅里叶变换红外收光谱对ZnO/PS和ZnO:Cu/PS的分析 | 第59-60页 |
| ·拉曼散射光谱对ZnO/Si和ZnO:Cu/Si的分析 | 第60-61页 |
| ·紫外-可见光分光光度计对ZnO/glass和ZnO:Cu/glass的分析 | 第61-62页 |
| ·基底与Cu掺杂对光致发光谱的影响分析 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第六章 总结和展望 | 第68-70页 |
| ·总结 | 第68-69页 |
| ·展望 | 第69-70页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
