| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| §1.1 ZnO的基本性质 | 第13-17页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第13-15页 |
| ·ZnO的本征缺陷和掺杂 | 第15-16页 |
| ·ZnO的光电性质 | 第16页 |
| ·ZnO的压电性质 | 第16页 |
| ·ZnO的气敏性质 | 第16-17页 |
| §1.2 ZnO的研究进展 | 第17-19页 |
| ·掺杂ZnO的研究 | 第17页 |
| ·提高ZnO薄膜性能的研究 | 第17-18页 |
| ·ZnO薄膜发光的研究 | 第18-19页 |
| §1.3 本论文的研究意义和主要内容 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备与表征 | 第25-36页 |
| §2.1 ZnO常用的制备方法 | 第25-29页 |
| ·磁控溅射法 | 第25-27页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第27页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第27-28页 |
| ·水热法 | 第28-29页 |
| ·金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第29页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第29页 |
| §2.2 常用的表征方法 | 第29-35页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第29-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·紫外分光光度计 | 第32-33页 |
| ·荧光分光光度计(PL) | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-36页 |
| 第三章 退火温度对同质缓冲层ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第36-46页 |
| §3.1 实验工艺流程、制备参数与表征方法 | 第36-37页 |
| §3.2 退火温度对薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第37-43页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜的微观结构的影响 | 第37-40页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜光学特性的影响 | 第40-41页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第41-43页 |
| §3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第四章 有无ZnO缓冲层上生长AZO薄膜微观结构和光学特性的研究 | 第46-53页 |
| §4.1 实验工艺流程、制备参数与表征方法 | 第46-47页 |
| §4.2 退火处理对有无ZnO缓冲层生长AZO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第47-50页 |
| ·有无缓冲层对AZO薄膜的微观结构的影响 | 第47-49页 |
| ·有无缓冲层对AZO薄膜的光学特性的影响 | 第49-50页 |
| §4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第五章 退火温度和气氛对ZnO缓冲层生长AZO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第53-62页 |
| §5.1 实验工艺流程、制备参数与表征方法 | 第53-54页 |
| §5.2 退火温度和气氛对ZnO缓冲层生长AZO薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第54-58页 |
| ·退火温度和气氛对ZnO缓冲层生长对AZO薄膜的微观结构的影响 | 第54-56页 |
| ·退火温度和气氛对ZnO缓冲层上生长AZO薄膜光学特性的影响 | 第56-58页 |
| §5.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| §6.1 总结 | 第62-63页 |
| §6.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表和完成的论文 | 第65-66页 |
