| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·金刚石的结构及优越性能 | 第10-14页 |
| ·金刚石的结构 | 第10-12页 |
| ·金刚石的优越性能 | 第12-14页 |
| ·CVD 金刚石膜的研究进展 | 第14-22页 |
| ·CVD 金刚石膜的沉积机理 | 第14-16页 |
| ·CVD 金刚石膜制备技术的发展概况 | 第16-18页 |
| ·CVD 金刚石膜的应用 | 第18-22页 |
| ·本课题研究目的和意义 | 第22-30页 |
| 第二章 新型MPCVD 金刚石膜实验装置及表征方法 | 第30-42页 |
| ·新型MPCVD 金刚石膜的沉积装置 | 第30-37页 |
| ·微波系统 | 第31-35页 |
| ·气路系统 | 第35页 |
| ·真空系统及测量系统 | 第35-36页 |
| ·保护系统 | 第36-37页 |
| ·样品表征 | 第37-42页 |
| ·光学显微镜 | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| ·原子力显微镜 | 第39页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第39-40页 |
| ·X 射线衍射 | 第40-42页 |
| 第三章 大面积CVD 金刚石膜沉积的工艺研究 | 第42-58页 |
| ·基片温度对沉积大面积CVD 金刚石膜的影响 | 第43-46页 |
| ·微波功率与沉积气压对沉积大面积CVD 金刚石膜的影响 | 第46-51页 |
| ·碳源浓度对沉积大面积CVD 金刚石膜的影响 | 第51-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 工艺参数的优化与大面积CVD 金刚石膜的制备 | 第58-72页 |
| ·大面积微米级CVD 金刚石膜的取向研究 | 第58-64页 |
| ·大面积高平整度纳米CVD 金刚石膜的制备 | 第64-69页 |
| ·分析与讨论 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 论文总结与展望 | 第72-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
