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磁控溅射制备GexC1-x薄膜的结构及性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第1章 绪论第8-16页
   ·课题背景第8-9页
   ·国内外红外增透与保护膜材料的发展第9-14页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的制备方法第14-15页
   ·论文研究的主要内容第15-16页
第2章 Ge_xC_(1-x)薄膜的制备及试验方法第16-25页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的制备系统及原理第16-22页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的制备第22-23页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜结构及性能的表征方法第23-24页
   ·本章小结第24-25页
第3章 锗、碳薄膜结构及性质研究第25-40页
   ·引言第25页
   ·锗、碳薄膜的Raman光谱分析第25-34页
   ·锗薄膜的力学性质分析第34-39页
   ·本章小结第39-40页
第4章 Ge_xC_(1-x)薄膜结构及性能研究第40-57页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的组分分析第40-44页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的结构分析第44-50页
   ·Ge_xC_(1-x)薄膜的透过率与折射率第50-55页
   ·本章小结第55-57页
结论第57-58页
参考文献第58-62页
攻读学位期间发表的学术论文第62-64页
致谢第64-65页
个人简历第65页

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