开关型MEMS移相器的建模与仿真研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-19页 |
·课题背景 | 第9页 |
·传统移相器研究现状 | 第9-12页 |
·移相器的概述 | 第9-11页 |
·传统移相器 | 第11-12页 |
·新型移相器研究现状 | 第12-15页 |
·MEMS 技术概述 | 第12页 |
·射频MEMS 技术 | 第12-13页 |
·开关线型MEMS 移相器 | 第13-14页 |
·反射型MEMS 移相器 | 第14页 |
·分布式MEMS 传输线移相器 | 第14-15页 |
·DMTL 移相器的国内外研究现状 | 第15-17页 |
·国外研究现状 | 第15-16页 |
·国内研究现状 | 第16-17页 |
·本课题的主要研究内容及结构 | 第17-19页 |
·本课题的主要研究内容 | 第17-18页 |
·本文的结构安排 | 第18-19页 |
第2章 分布式MEMS移相器设计理论 | 第19-33页 |
·引言 | 第19页 |
·分布式MEMS 传输线移相器工作原理介绍 | 第19-20页 |
·Bragg 频率的分析 | 第20-21页 |
·MEMS 电路分析 | 第21-26页 |
·传输线等效电路分析 | 第21-22页 |
·MEMS 金属桥电路的分析 | 第22-26页 |
·“关态”下的MEMS 电路分析 | 第26-30页 |
·相移原理分析 | 第26-28页 |
·“关态”下的等效电路分析 | 第28-30页 |
·MEMS 移相器电路的改进设计 | 第30-31页 |
·S 参数的分析 | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第3章 分布式MEMS移相器的优化设计 | 第33-46页 |
·引言 | 第33页 |
·设计指标要求与方法讨论 | 第33-34页 |
·设计具体指标 | 第33页 |
·设计方法讨论 | 第33-34页 |
·优化设计 | 第34-43页 |
·共面波导结构设计 | 第34-36页 |
·S_(11)参数的分析 | 第36-39页 |
·S_(21)参数的分析 | 第39-41页 |
·相移特性的分析 | 第41-43页 |
·Bragg 频率参数的分析 | 第43页 |
·ADS 电路仿真验证 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第4章 MEMS移相器全波分析优化与应力特性验证 | 第46-67页 |
·引言 | 第46页 |
·全波分析与优化 | 第46-52页 |
·四桥结构的验证与优化 | 第46-48页 |
·多桥移相器设计与分析 | 第48-50页 |
·移相器设计公差分析 | 第50-52页 |
·MEMS 金属桥应力特性验证 | 第52-60页 |
·MEMS 金属桥的弹性系数分析 | 第52-55页 |
·静电激励与下拉电压 | 第55-57页 |
·Ansys 应力仿真验证 | 第57-59页 |
·下拉电压V_p和桥尺寸的关系 | 第59-60页 |
·移相器结构最终模型与公差要求 | 第60-61页 |
·移相器神经网络建模分析 | 第61-66页 |
·神经网络方法简介 | 第61-62页 |
·基于神经网络的RF MEMS 移相器建模方法 | 第62-64页 |
·RF MEMS 移相器神经网络建模实验验证 | 第64-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第5章 硅基锯齿形DMTL移相器的制备 | 第67-72页 |
·引言 | 第67页 |
·MASK 版图设计 | 第67-68页 |
·样片加工工艺 | 第68-71页 |
·样片加工工艺流程 | 第68-70页 |
·移相器样片加工工艺的重点要求 | 第70页 |
·样片加工Foundry 单位选取与介绍 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第78-81页 |
致谢 | 第81页 |