微结构掩膜电铸均匀性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-17页 |
| ·研究背景概述 | 第12-13页 |
| ·微结构掩膜电铸均匀性研究现状 | 第13-15页 |
| ·本文的研究意义和主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 微结构掩膜电铸均匀性理论基础 | 第17-24页 |
| ·电铸过程分析 | 第17-18页 |
| ·铸层厚度与电流密度的关系 | 第18-19页 |
| ·考虑物质传递与电化学极化的完整j? η关系式 | 第19-23页 |
| ·完整电流-过电势公式的推导 | 第19-21页 |
| ·电化学极化曲线与不同受控模式 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 对流- 扩散对微结构掩膜电铸均匀性的影响 | 第24-40页 |
| ·对流- 扩散基本方程 | 第24页 |
| ·微结构电铸流场分析模型 | 第24-27页 |
| ·流场数值模拟结果与分析 | 第27-39页 |
| ·物质传递对铸层均匀性的影响 | 第27-32页 |
| ·流速对铸层均匀性的影响 | 第32-35页 |
| ·流动方式对铸层均匀性的影响 | 第35-37页 |
| ·光刻胶倾角在流场下对铸层均匀性的影响 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 电化学极化对微结构掩膜电铸均匀性的影响 | 第40-50页 |
| ·拉普拉斯方程与欧姆定律 | 第40-41页 |
| ·微结构电铸电场分析模型 | 第41-42页 |
| ·电场数值模拟结果与分析 | 第42-49页 |
| ·电场对镀层均匀性的影响 | 第42-44页 |
| ·电化学极化对镀层均匀性的影响 | 第44-47页 |
| ·光刻胶倾角在电场下对铸层均匀性的影响 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 微结构掩膜电铸均匀性的实验研究 | 第50-63页 |
| ·基本工艺 | 第50-58页 |
| ·溅射工艺 | 第50页 |
| ·光刻工艺 | 第50-56页 |
| ·微电铸工艺 | 第56-58页 |
| ·工艺流程 | 第58-59页 |
| ·微结构镀层形貌测试与分析 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 总结与展望 | 第63-65页 |
| ·主要结论 | 第63-64页 |
| ·研究展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利 | 第70页 |
