| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8-11页 |
| ·热释电红外探测器工作原理及材料性能指标 | 第11-15页 |
| ·工作原理 | 第11-12页 |
| ·工作模式 | 第12-14页 |
| ·热释电材料性能指标 | 第14-15页 |
| ·BST 材料的结构性能及薄膜化制备方法 | 第15-18页 |
| ·BST 的结构性能 | 第15-16页 |
| ·BST 薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·本论文主要工作 | 第18-20页 |
| 第二章 实验方法 | 第20-29页 |
| ·BST 薄膜的RF 溅射工艺方法 | 第20-22页 |
| ·RF 溅射原理 | 第20-21页 |
| ·倒置筒形靶 RF 溅射系统简介 | 第21-22页 |
| ·BST 薄膜样品的上电极制备方法 | 第22页 |
| ·薄膜微观分析方法 | 第22-25页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第23-24页 |
| ·SEM 工作原理 | 第24-25页 |
| ·AFM 工作原理 | 第25页 |
| ·薄膜电性能测试方法 | 第25-29页 |
| ·介电性能测试方法 | 第25-26页 |
| ·热释电系数测试方法 | 第26-29页 |
| 第三章 靶材的制备 | 第29-33页 |
| ·工艺过程 | 第29-31页 |
| ·靶材的分析 | 第31-33页 |
| 第四章 BST 红外热释电薄膜的 BSR 缓冲层工艺与性能研究 | 第33-52页 |
| ·缓冲层工艺与薄膜结构 | 第33页 |
| ·BST 薄膜样品的制备 | 第33-34页 |
| ·BSR 缓冲层的工艺参数对BST 薄膜结构及电性能的影响研究 | 第34-52页 |
| ·BSR 缓冲层的沉积功率 | 第35-37页 |
| ·BSR 缓冲层的沉积气压 | 第37-41页 |
| ·BSR 缓冲层沉积氧氩比 | 第41-42页 |
| ·BSR 缓冲层的厚度 | 第42-45页 |
| ·BSR 对称缓冲层结构 | 第45-49页 |
| ·BSR 缓冲层优化工艺的可重复性研究 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第五章 BST 薄膜红外单元探测器及性能分析 | 第52-58页 |
| ·红外探测器的主要性能指标 | 第52-53页 |
| ·探测率测试系统 | 第53-54页 |
| ·单元探测器结构 | 第54-55页 |
| ·单元探测器探测率测试 | 第55-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |