铌酸锌铋BZN薄膜的制备和介电可调性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·电介质材料与电介质薄膜 | 第8-9页 |
| ·微波介质材料研究背景 | 第9-13页 |
| ·微波介质材料与谐振器 | 第10-11页 |
| ·微波调谐的应用及研究意义 | 第11-12页 |
| ·微波调谐应用对材料介电性能的要求 | 第12-13页 |
| ·BZN薄膜的简介及研究现状 | 第13-19页 |
| ·BZN材料的结构 | 第14-15页 |
| ·BZN薄膜的研究现状 | 第15-19页 |
| ·BZN薄膜制备工艺 | 第15-17页 |
| ·薄膜的组分变化和掺杂 | 第17-18页 |
| ·薄膜器件结构的选择 | 第18-19页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第19页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验基本原理 | 第20-32页 |
| ·溅射原理 | 第20-24页 |
| ·溅射基本原理 | 第20-21页 |
| ·射频溅射原理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| ·BZN薄膜微观结构表征方法 | 第24-30页 |
| ·X射线衍射原理 | 第24-26页 |
| ·AFM的工作原理 | 第26-28页 |
| ·SEM的工作原理 | 第28-29页 |
| ·XPS分析基本原理 | 第29-30页 |
| ·电学性能测试 | 第30-32页 |
| ·电极的制备 | 第30页 |
| ·介电常数的测量 | 第30页 |
| ·可调率的测量 | 第30-31页 |
| ·介电损耗的测量 | 第31-32页 |
| 第三章 BZN靶材和薄膜的制备 | 第32-46页 |
| ·BZN靶材的制备 | 第32-35页 |
| ·原材料的选择 | 第32页 |
| ·制备工艺 | 第32-34页 |
| ·磁控溅射设备系统简介 | 第34-35页 |
| ·溅射法制备BZN薄膜 | 第35-43页 |
| ·基片的选择 | 第35-36页 |
| ·溅射参数的选择 | 第36-37页 |
| ·衬底温度对薄膜成分的影响 | 第37-39页 |
| ·衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·功率对薄膜表面形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·退火处理对BZN薄膜的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 BZN薄膜介电性能研究 | 第46-56页 |
| ·不同靶组分对BZN薄膜介电性能的影响 | 第46-47页 |
| ·电极材料对介电性能的影响 | 第47-48页 |
| ·退火处理对BZN薄膜介电性能的影响 | 第48-49页 |
| ·介电常数和可调率的频率谱 | 第49-50页 |
| ·介电性能的分析和研究 | 第50-55页 |
| ·BZN材料与BST材料介电可调性的对比 | 第50-53页 |
| ·BZN材料与BST材料损耗的对比 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第62页 |
