高精度镱薄膜高压力传感器的制备
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 前言 | 第9-22页 |
·应用背景及意义 | 第9-12页 |
·国内外研究进展 | 第12-16页 |
·镱的压阻特性 | 第16-19页 |
·影响压阻系数的因素 | 第19-22页 |
第二章 镱薄膜传感器结构设计 | 第22-32页 |
·冲击波在介质中的传播过程 | 第22-24页 |
·“埋入式”镱传感器的靶结构设计 | 第24-26页 |
·靶的设计 | 第26-29页 |
·敏感元件结构设计 | 第29-31页 |
·封装材料的选择 | 第31-32页 |
第三章 镱薄膜传感器的制备工艺 | 第32-42页 |
·薄膜沉积方法选择 | 第32页 |
·工艺流程 | 第32-33页 |
·敏感薄膜制备与分析 | 第33-39页 |
·传感器封装和靶装配 | 第39-42页 |
第四章 动态高压测试 | 第42-52页 |
·动态高压测试原理 | 第42-44页 |
·压力计算 | 第44页 |
·测试结果与分析 | 第44-52页 |
第五章 高阻型镱传感器的初步探索 | 第52-57页 |
·应用背景 | 第52页 |
·制作方法的选择 | 第52-53页 |
·涂胶工艺 | 第53页 |
·刻蚀液配方 | 第53-54页 |
·光刻工艺流程 | 第54-55页 |
·铜薄膜电极的制备 | 第55-57页 |
第六章 结论与展望 | 第57-58页 |
·结论 | 第57页 |
·有待深入研究的问题 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第63-64页 |