掺氮类金刚石薄膜的制备及其表征
| 第一章 绪论 | 第1-28页 |
| ·等离子体技术原理 | 第7-14页 |
| ·等离子体的主要发生方法 | 第7-8页 |
| ·气体放电法 | 第8-12页 |
| ·辉光放电现象及帕邢定律 | 第12-14页 |
| ·等离子体技术在薄膜制备中的应用 | 第14-17页 |
| ·薄膜化技术概述 | 第14-15页 |
| ·薄膜质量的评价方法 | 第15页 |
| ·等离子体技术制膜 | 第15-16页 |
| ·等离子体聚合 | 第16-17页 |
| ·类金刚石薄膜的制备及其应用发展 | 第17-24页 |
| ·类金刚石(DLC)薄膜 | 第17-20页 |
| ·DLC膜的制备方法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积 | 第20-22页 |
| ·RF-PECVD法 | 第22页 |
| ·类金刚石膜的应用趋势及所存在的问题 | 第22-24页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
| ·本课题研究目的和研究内容 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第二章 掺氮类金刚石薄膜的制备及表征 | 第28-39页 |
| ·实验装置及步骤 | 第28-29页 |
| ·实验装置 | 第28页 |
| ·工艺步骤 | 第28-29页 |
| ·样品的准备及基片清洗 | 第29页 |
| ·薄膜结构及性能表征 | 第29-37页 |
| ·沉积速率 | 第29-30页 |
| ·傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR) | 第30-31页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第31-33页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第33页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第34页 |
| ·摩擦学性能测试 | 第34-35页 |
| ·纳米硬度及弹性模量测试 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 掺氮类金刚石膜的结构及性能研究 | 第39-57页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的沉积速率 | 第39-40页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的红外光谱研究 | 第40-43页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的拉曼光谱研究 | 第43-46页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的XPS光谱研究 | 第46-49页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的X射线衍射光谱研究 | 第49-50页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的表面形貌研究 | 第50-52页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的摩擦学性能研究 | 第52-54页 |
| ·掺氮类金刚石薄膜的纳米硬度及弹性模量 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第四章 薄膜的生长机制 | 第57-72页 |
| ·类金刚石薄膜的生长机理 | 第57-63页 |
| ·射频CH_4等离子体的产生 | 第57-60页 |
| ·等离子体与表面反应过程 | 第60-63页 |
| ·氮在类金刚石薄膜中可能的成键方式 | 第63-67页 |
| ·氮在类金刚石薄膜中的存在形式 | 第63-64页 |
| ·轨道杂化方式和化学键的类型 | 第64-66页 |
| ·氮在类金刚石薄膜中可能的成键方式 | 第66-67页 |
| ·掺氮提高类金刚石薄膜性能的机理 | 第67-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-75页 |
| ·结论 | 第72-74页 |
| ·展望 | 第74-75页 |
| 本论文创新性说明 | 第75-76页 |
| 硕士期间发表论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 独创性声明 | 第78页 |
| 学位论文使用授权说明 | 第78页 |
