激光薄膜光学常数和膜厚均匀性的研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
1 绪言	第9-19页
·薄膜光学常数的研究意义和现状	第9-11页
·膜厚均匀性的研究意义和现状	第11-13页
·膜厚监控方法的进展	第13-17页
·本论文研究内容	第17-19页
2 薄膜光学常数数值模拟与蒸发源发射特性理论	第19-30页
·薄膜光学常数数值模拟的研究方法	第20-24页
·理想蒸发源的余弦分布模型及修正	第24-27页
·离子辅助镀技术研究	第27-29页
·本章小结	第29-30页
3 薄膜光学常数的测试与数值模拟	第30-39页
·塞耳迈尔(Sellmeier)色散关系	第30-31页
·最优化方法	第31-34页
·最优化方法举例	第34-38页
·本章小结	第38-39页
4 离子辅助镀薄膜厚度均匀性的研究	第39-51页
·常规夹具的膜厚均匀性分析	第39-44页
·行星夹具的设计和分析	第44-47页
·低背景气压和离子辅助镀对膜厚均匀性的影响	第47-49页
·本章小结	第49-51页
5 大面积均匀激光薄膜的实验研究	第51-65页
·镀膜和测试设备介绍	第51-54页
·几种典型激光薄膜材料光学常数的测量和结果分析	第54-58页
·DYC-900 型镀膜机均匀性的改进	第58-61页
·ES-26CB 型镀膜机行星夹具设计	第61-64页
·本章小结	第64-65页
6 全文总结	第65-66页
致谢	第66-67页
参考文献	第67-72页
附录Ⅰ 攻读硕士学位期间发表论文	第72-73页
附录Ⅱ 最优化法流程图	第73-74页
附录Ⅲ 实物照片	第74-76页