脉冲磁控溅射法制备石英晶体谐振器的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-14页 |
| ·石英晶体谐振器 | 第7-10页 |
| ·石英晶体及其基本性质 | 第7页 |
| ·石英晶体的压电效应 | 第7-8页 |
| ·石英晶体的切型 | 第8-9页 |
| ·石英晶体谐振器的结构 | 第9-10页 |
| ·石英晶体谐振器的发展历史 | 第10-11页 |
| ·石英晶体谐振器的生产过程 | 第11-12页 |
| ·本论文的研究内容与意义 | 第12页 |
| ·本章小结 | 第12-14页 |
| 2 脉冲磁控溅射制备薄膜的基本原理 | 第14-23页 |
| ·溅射的基本原理 | 第14-18页 |
| ·辉光放电 | 第14-15页 |
| ·溅射产额 | 第15-17页 |
| ·溅射的级联模型 | 第17-18页 |
| ·直流二极溅射 | 第18页 |
| ·磁控溅射技术 | 第18-20页 |
| ·磁控溅射技术基本原理 | 第18-19页 |
| ·脉冲磁控溅射技术 | 第19-20页 |
| ·薄膜检测技术 | 第20-22页 |
| ·薄膜结构分析 | 第20-21页 |
| ·表面形貌分析 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 3 实验的准备 | 第23-29页 |
| ·实验系统组成 | 第23-24页 |
| ·实验的操作步骤 | 第24-25页 |
| ·实验样品的准备 | 第25页 |
| ·实验方案设计 | 第25页 |
| ·磁控溅射靶的特性研究 | 第25-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 4 工艺参数对Al膜特性的影响 | 第29-43页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第29-30页 |
| ·工艺参数对薄膜沉积速率的影响 | 第30-35页 |
| ·脉冲溅射功率对Al膜表面形态的影响 | 第35页 |
| ·脉冲溅射时间对Al膜表面形态的影响 | 第35-36页 |
| ·直流磁控溅射于脉冲磁控溅射的对比 | 第36-39页 |
| ·氩气压力对Al微膜结构的影响 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 5 谐振器铝电极的制备 | 第43-51页 |
| ·石英晶体谐振器电极的设计 | 第43-47页 |
| ·谐振器的振动模式和激励方式 | 第43-44页 |
| ·谐振器电极位置的考虑 | 第44-45页 |
| ·电极面积与谐振器等效参数的关系 | 第45-46页 |
| ·谐振频率与电极镀膜厚度的关系 | 第46-47页 |
| ·谐振器电极的制备 | 第47-49页 |
| ·测试及制备方法 | 第47页 |
| ·实验误差分析 | 第47-48页 |
| ·制备方法的改进 | 第48-49页 |
| ·谐振器的失效分析及改进措施 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 6 总结 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 附录 | 第55页 |
