| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-23页 |
| 1 甲基对硫磷的理化性质、农业应用及危害 | 第11页 |
| ·甲基对硫磷的结构及其理化性质 | 第11页 |
| ·甲基对硫磷在生物体内的毒理学原理及其对环境的危害 | 第11页 |
| 2 甲基对硫磷分离分析检测方法的研究现状 | 第11-16页 |
| ·色谱法 | 第12-14页 |
| ·免疫测定法 | 第14页 |
| ·电分析化学法 | 第14-16页 |
| 3 化学修饰电极的定义、发展历史及其研究现状 | 第16-17页 |
| ·化学修饰电极的定义 | 第16页 |
| ·化学修饰电极的历史 | 第16-17页 |
| ·化学修饰电极的研究现状 | 第17页 |
| 4 化学修饰电极的分类、修饰方法 | 第17-21页 |
| ·化学修饰电极的分类 | 第17-18页 |
| ·化学修饰电极的修饰方法及特征 | 第18-20页 |
| ·化学修饰的基体电极 | 第20-21页 |
| 5 课题研究创新点及其研究内容 | 第21-22页 |
| 6 本论文的研究目的与意义 | 第22-23页 |
| 第二章 甲基对硫磷在介孔二氧化硅修饰碳糊电极上的电化学行为研究 | 第23-31页 |
| 1 引言 | 第23页 |
| 2 实验部分 | 第23-25页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第23-24页 |
| ·介孔SiO_2材料的合成 | 第24页 |
| ·介孔SiO_2修饰碳糊电极的制备 | 第24页 |
| ·测试方法 | 第24-25页 |
| 3 结果与讨论 | 第25-30页 |
| ·介孔二氧化硅修饰碳糊电极的电化学传感特性 | 第25页 |
| ·介孔二氧化硅的表面形貌表征 | 第25-26页 |
| ·最佳支持电解质溶液的筛选 | 第26页 |
| ·富集时间和富集电位对峰电流的影响 | 第26-28页 |
| ·介孔二氧化硅用量对氧化峰峰电流的影响 | 第28页 |
| ·扫描速率的影响 | 第28-29页 |
| ·重现性、线性范围及其检出限 | 第29页 |
| ·干扰测定 | 第29-30页 |
| 4 结论 | 第30-31页 |
| 第三章 甲基对硫磷在聚L赖氨酸纳米膜修饰玻碳电极上的电化学行为研究 | 第31-40页 |
| 1 引言 | 第31页 |
| 2 实验部分 | 第31-32页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第31-32页 |
| ·聚L赖氨酸修饰玻碳电极的制备 | 第32页 |
| ·实验方法 | 第32页 |
| ·分析程序 | 第32页 |
| 3 结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·聚L赖氨酸膜的结构表征 | 第32-33页 |
| ·电化学聚合条件的选择 | 第33页 |
| ·聚L赖氨酸膜的电化学性能研究 | 第33-35页 |
| ·最佳支持电解质溶液的选择 | 第35页 |
| ·pH值对甲基对硫磷氧化峰峰电流的影响 | 第35-36页 |
| ·富集时间对甲基对硫磷氧化峰电流的响应情况 | 第36-37页 |
| ·线性范围及其最低检出限 | 第37-38页 |
| ·干扰离子、重现性及稳定性测试 | 第38页 |
| ·实际样品的测定 | 第38-39页 |
| 4 结论 | 第39-40页 |
| 第四章 聚5氨基2巯基1,3,4噻二唑纳米膜修饰电极的电聚合制备及在甲基对硫磷检测中的应用研究 | 第40-48页 |
| 1 引言 | 第40页 |
| 2 实验部分 | 第40-41页 |
| ·仪器与试剂 | 第40-41页 |
| ·pAMT/GCE的制备 | 第41页 |
| ·实验方法 | 第41页 |
| 3 结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·电聚合制备pAMT/GCE | 第41-42页 |
| ·聚AMT膜的表征 | 第42页 |
| ·甲基对硫磷的电化学行为 | 第42-44页 |
| ·pH值对甲基对硫磷氧化峰电流的影响 | 第44-45页 |
| ·富集时间和富集电位对甲基对硫磷氧化峰峰电流的影响 | 第45-46页 |
| ·线性范围及检出限 | 第46-47页 |
| ·电极重现性及其干扰物质测定 | 第47页 |
| 4 总结 | 第47-48页 |
| 全文总结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-56页 |
| 附录 攻读硕士学位的主要成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
