摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 纳米结构的构筑方法 | 第11-23页 |
1.2.1 光刻法 | 第11-12页 |
1.2.2 基于单原子、单分子组装法 | 第12-22页 |
1.2.3 模版法 | 第22-23页 |
1.3 研究内容与研究目的 | 第23-25页 |
第2章 实验原理与实验设备 | 第25-34页 |
2.1 扫描隧道显微镜 | 第25-33页 |
2.1.1 扫描隧道显微镜的工作原理 | 第25-28页 |
2.1.2 扫描隧道显微镜的工作模式 | 第28-29页 |
2.1.3 低温超高真空扫描隧道显微镜(CreatecLT-STM) | 第29-31页 |
2.1.4 针尖制备与处理 | 第31-33页 |
2.2 有机分子沉积技术 | 第33-34页 |
第3章 原子数准确的银纳米结构的构筑 | 第34-49页 |
3.1 Si(111)-7×7重构表面 | 第34-36页 |
3.1.1 Si(111)-7×7重构表面DAS模型 | 第34-35页 |
3.1.2 Si(111)-7×7重构表面的制备与观测 | 第35-36页 |
3.2 银原子在Si(111)-7×7重构表面的吸附行为与表征 | 第36-37页 |
3.3 Si(111)表面银原子的操纵方法 | 第37-38页 |
3.4 Si(111)表面银纳米结构的构筑 | 第38-43页 |
3.5 原子数准确的银纳米结构的特征及分析 | 第43-48页 |
3.5.1 银纳米结构的特征 | 第44-46页 |
3.5.2 银纳米结构特征的理论分析 | 第46-48页 |
3.6 本章总结 | 第48-49页 |
第4章 基于高精度富勒烯分子操纵的人工纳米结构的构筑 | 第49-65页 |
4.1 Si(111)表面富勒烯分子的操纵 | 第50-55页 |
4.1.1 富勒烯分子在Si(111)表面的表征 | 第51-52页 |
4.1.2 富勒烯分子的垂直式操纵 | 第52-55页 |
4.2 富勒烯分子算盘的构筑及运算 | 第55-64页 |
4.2.1 富勒烯分子的原子级精度操纵 | 第55-60页 |
4.2.2 富勒烯的微米级输运 | 第60-61页 |
4.2.3 富勒烯分子算盘的构筑与运算 | 第61-64页 |
4.3 本章总结 | 第64-65页 |
第5章 表面辅助的石墨烯量子点的构筑及边界态分析 | 第65-78页 |
5.1 石墨烯 | 第65-67页 |
5.2 Cu(111)单晶表面制备 | 第67-68页 |
5.3 Cu(111)表面三角形石墨烯量子点的构筑 | 第68-72页 |
5.3.1 二茂铁二羧酸在Cu(111)表面的吸附结构 | 第69-70页 |
5.3.2 锯齿型边界三角形石墨烯的构筑 | 第70-72页 |
5.4 三角形石墨烯量子点边界态 | 第72-76页 |
5.4.1 量子点边界态表征 | 第72-74页 |
5.4.2 量子点尺寸效应及分析 | 第74-76页 |
5.5 本章总结 | 第76-78页 |
第6章 结论与展望 | 第78-81页 |
6.1 结论 | 第78-79页 |
6.2 进一步工作的方向 | 第79-81页 |
致谢 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-96页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第96页 |