| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| abstract | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第15-23页 |
| 1.1 课题背景 | 第15-16页 |
| 1.2 头盔显示技术的发展 | 第16-17页 |
| 1.3 全息波导显示技术国内外研究现状 | 第17-20页 |
| 1.4 课题研究的目的和意义 | 第20-21页 |
| 1.5 论文工作内容和安排 | 第21-23页 |
| 第二章 全息波导技术的相关理论 | 第23-32页 |
| 2.1 全息波导显示原理 | 第23-25页 |
| 2.2 衍射与衍射理论 | 第25-28页 |
| 2.2.1 标量衍射理论介绍 | 第26-27页 |
| 2.2.2 矢量衍射理论介绍 | 第27-28页 |
| 2.2.3 标量衍射理论与矢量衍射理论的比较 | 第28页 |
| 2.3 光刻技术 | 第28-31页 |
| 2.3.1 光刻加工流程 | 第28-29页 |
| 2.3.2 无掩膜光刻直写技术 | 第29-31页 |
| 2.3.3 海德堡MLA100无掩膜光刻直写设备介绍 | 第31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 全息波导技术中的光栅设计 | 第32-48页 |
| 3.1 标量衍射理论计算公式 | 第32-33页 |
| 3.2 标量理论的适用范围分析 | 第33-35页 |
| 3.2.1 光栅刻蚀深度的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.2 折射率的影响 | 第35页 |
| 3.3 基于标量理论的光栅微结构设计原理 | 第35-38页 |
| 3.4 光栅结构计算结果 | 第38-40页 |
| 3.5 严格耦合波分析法的仿真分析及优化 | 第40-41页 |
| 3.6 衍射光栅的误差分析 | 第41-46页 |
| 3.6.1 光线斜入射分析 | 第42-45页 |
| 3.6.2 结构塌陷分析 | 第45-46页 |
| 3.7 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 全息波导中光栅的制备与测试 | 第48-57页 |
| 4.1 光栅的制备 | 第48-53页 |
| 4.1.1 光刻材料与性能参数确定 | 第48-49页 |
| 4.1.2 旋涂与光刻参数优化 | 第49-53页 |
| 4.2 光栅的测试与分析 | 第53-55页 |
| 4.2.1 光栅测试系统 | 第53-54页 |
| 4.2.2 测试结果及分析 | 第54-55页 |
| 4.3 全息波导系统的测试及分析 | 第55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 全文总结 | 第57页 |
| 5.2 研究展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第62-63页 |