高Q值平面微腔的制作及特性测试

摘要	第1-5页
Abstract	第5-9页
第一章 绪论	第9-15页
·课题研究意义	第9-11页
·光学平面微腔的研究状况	第11-14页
·国外平面微腔研究进展	第11-13页
·国内平面微腔研究进展	第13-14页
·本论文结构安排	第14-15页
第二章 平面微盘腔的设计与MEMS 工艺制作	第15-32页
·微盘腔的设计	第15-17页
·腔内光约束机理介绍	第15页
·微盘腔的结构设计	第15-17页
·微盘腔的制作方法概述	第17-31页
·微盘腔的制作流程	第17-19页
·SiO_2薄膜层制备	第19-20页
·涂胶及曝光显影	第20-23页
·微盘腔氧化层的刻蚀	第23-27页
·微盘腔硅基的刻蚀	第27-31页
·本章小结	第31-32页
第三章 平面环形微腔的设计与表面热处理工艺	第32-42页
·平面环形微腔的设计	第32-33页
·表面热处理工艺介绍	第33-39页
·实验设备介绍	第33-34页
·表面处理加工实验	第34-39页
·平面环形微腔的结构分析	第39-41页
·本章小结	第41-42页
第四章 平面微腔的性能测试	第42-54页
·性能测试系统介绍	第42-50页
·锥形光纤制作	第42-47页
·耦合系统理论分析	第47-50页
·微腔性能测试	第50-53页
·本章小结	第53-54页
第五章 总结与展望	第54-56页
·本文总结	第54-55页
·今后的研究工作展望	第55-56页
参考文献	第56-60页
攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的成果	第60-61页
致谢	第61页