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多栅场效应晶体管物理特性与器件仿真模型研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
目录第5-7页
第一章 绪论第7-14页
    1.1 按比例缩小尺寸的 CMOS 技术第7-9页
    1.2 硅基非传统 MOSFETS第9-11页
    1.3 紧致 MOSFET 模型第11-13页
    1.4 本论文的内容安排第13-14页
第二章 多栅场效应晶体管物理特性第14-27页
    2.1 非传统 MOSFETs 的特性第14-16页
    2.2 按比例缩小尺寸引起的短沟道问题第16-22页
    2.3 多栅器件的反型层电容第22-26页
    2.4 小结第26-27页
第三章 长沟道双栅和环栅 MOSFETs 的 TCAD 仿真第27-44页
    3.1 TCAD 仿真工具介绍第27-28页
    3.2 双栅 MOSFETs 的 TCAD 仿真及分析第28-37页
    3.3 环栅 MOSFETs 的 TCAD 仿真及分析第37-43页
    3.4 小结第43-44页
第四章 沟道掺杂多栅 MOSFET 器件的统一模型第44-56页
    4.1 沟道掺杂对器件的影响第44页
    4.2 沟道掺杂双栅 MOSFET 器件的电势模型第44-50页
    4.3 沟道掺杂双栅 MOSFET 器件的电荷模型第50-54页
    4.4 沟道掺杂多栅 MOSFET 器件的统一模型第54-55页
    4.5 小结第55-56页
第五章 总结与展望第56-57页
参考文献第57-62页
附录1 非掺杂环栅的 Sivaco 仿真输入文件第62-63页
附录2 沟道掺杂双栅建模的 matlab 代码第63-65页
致谢第65页

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