SOI光波导微环结构的优化设计与加工
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 SOI光波导的应用背景和研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2 SOI光波导的结构 | 第11-16页 |
| 1.2.1 平板光波导 | 第11-13页 |
| 1.2.2 条形光波导 | 第13-14页 |
| 1.2.3 脊形光波导 | 第14-15页 |
| 1.2.4 槽形光波导 | 第15页 |
| 1.2.5 圆形光波导 | 第15-16页 |
| 1.3 光波导微环结构研究进展 | 第16-22页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 环形谐振腔理论基础 | 第24-34页 |
| 2.1 环腔的传输模型 | 第24-28页 |
| 2.1.1 单波导环腔传输模型 | 第24-26页 |
| 2.1.2 双直波导环腔传输模型 | 第26-28页 |
| 2.2 传感工作原理 | 第28-29页 |
| 2.2.1 环腔传感原理 | 第28-29页 |
| 2.3 环形谐振腔的主要性能指标 | 第29-32页 |
| 2.3.1 谐振波长和频率 | 第29页 |
| 2.3.2 自由光谱范围FSR | 第29-31页 |
| 2.3.3 半高全宽FWHM | 第31页 |
| 2.3.4 品质因子Q | 第31-32页 |
| 2.3.5 精细度F | 第32页 |
| 2.3.6 灵敏系数K | 第32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 环形谐振腔光学特性仿真优化 | 第34-52页 |
| 3.1 时域有限差分法(FDTD) | 第34-36页 |
| 3.1.1 OptiFDTD仿真软件 | 第34-36页 |
| 3.2 不同截面的环形谐振腔重要参数仿真分析 | 第36-50页 |
| 3.2.1 直波导结构与倏逝场 | 第37-39页 |
| 3.2.2 氢退火工艺中的波导模型建立 | 第39-40页 |
| 3.2.3 环形谐振腔有效折射率的变化 | 第40-42页 |
| 3.2.4 环形谐振腔灵敏系数仿真分析 | 第42-45页 |
| 3.2.5 环形谐振腔其它参数分析 | 第45-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 微环版图设计与加工制备 | 第52-64页 |
| 4.1 版图设计 | 第52-53页 |
| 4.2 SOI硅片制备 | 第53-56页 |
| 4.3 光波导制备工艺 | 第56-62页 |
| 4.3.1 光刻工艺 | 第56-57页 |
| 4.3.2 曝光工艺 | 第57页 |
| 4.3.3 反应离子刻蚀工艺 | 第57-59页 |
| 4.3.4 光滑化工艺 | 第59-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 研究工作总结 | 第64页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及所取得的研究成果 | 第72页 |
