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电化学光整加工过程中产生的气泡行为研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-16页
    1.1 选题依据第10-11页
        1.1.1 选题背景第10页
        1.1.2 存在的问题第10-11页
    1.2 国内外研究与应用现状第11-13页
        1.2.1 电化学光整加工原理及影响因素第11-12页
        1.2.2 气液二相流第12页
        1.2.3 流体中气泡周围的流场分布研究第12-13页
    1.3 选题的目的、意义及研究思路第13-16页
        1.3.1 选题的目的第13页
        1.3.2 选题的意义第13-14页
        1.3.3 研究的基本思路及方法第14-16页
2 微尺度流体理论及经典传质理论第16-28页
    2.1 微尺度及微尺度流体第16-17页
        2.1.1 微尺度第16页
        2.1.2 微尺度流体第16-17页
    2.2 传质理论研究第17-23页
        2.2.1 经典传质理论第17-19页
        2.2.2 经典模型的修正第19-20页
        2.2.3 湍动漩涡理论第20-22页
        2.2.4 界面非平衡理论第22-23页
    2.3 微尺度下的流体流场结构研究第23-28页
        2.3.1 电化学光整加工单相流流体第23-24页
        2.3.2 电化学光整加工极间气液二相流第24-27页
        2.3.3 边界层理论第27-28页
3 电化学光整加工极间介质气泡相似模型第28-34页
    3.1 相似理论第28-30页
        3.1.1 相似三定理第29-30页
        3.1.2 相似准则第30页
    3.2 电化学光整加工极间介质气泡相似模型及简化第30-34页
        3.2.1 相似条件的简化第31-33页
        3.2.2 建立相似模型第33-34页
4 电化学光整加工过程中的气泡行为研究第34-52页
    4.1 极间气泡周围流场和浓度场的模拟第34-36页
        4.1.1 气泡发生与观测系统实验原理及系统构成第34-35页
        4.1.2 气泡生长变化过程实验验证与分析第35-36页
    4.2 COMSOL 求解极间介质气泡相似模型第36-38页
    4.3 实验模拟结果第38-42页
        4.3.1 气泡周围的流场、浓度场及速度场分布 COMSOL 模拟结果第38-40页
        4.3.2 气泡上升过程的简化模拟及其周围流场分布第40-42页
    4.4 后处理分析第42-52页
        4.4.1 NaNO_3 溶液的流变数据分析第42页
        4.4.2 NaNO_3 溶液的浓度分布第42-43页
        4.4.3 NaNO_3 溶液中上升气泡周围的流场、浓度场及速度场分析第43-45页
        4.4.4 不同质量分数的 NaNO3 溶液中上升气泡周围的流场和浓度场第45-47页
        4.4.5 气泡上升速度对流场的影响第47-52页
5 结论及展望第52-55页
    5.1 结论第52-53页
    5.2 展望第53-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及参与项目第59-60页
致谢第60页

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