| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·单片微波集成电路（MMIC）电感的发展 | 第10-15页 |
| ·高Q 值电感 | 第11-14页 |
| ·层叠电感 | 第14页 |
| ·磁膜电感 | 第14-15页 |
| ·软磁性薄膜微波特性研究进展 | 第15-17页 |
| ·软磁性单层膜 | 第15-16页 |
| ·软磁性颗粒膜 | 第16页 |
| ·软磁性多层膜 | 第16-17页 |
| ·论文的目的和意义 | 第17-18页 |
| ·论文各部分的主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 磁膜电感的设计与仿真 | 第19-31页 |
| ·集成磁膜电感对磁性材料的要求 | 第19-21页 |
| ·有限元法的优点 | 第21页 |
| ·Ansoft HFSS 仿真软件 | 第21-22页 |
| ·Ansoft HFSS 在微波元器件仿真设计方面的优越性 | 第22页 |
| ·Ansoft HFSS 仿真微波器件的一般步骤 | 第22页 |
| ·磁性材料在HFSS 中的仿真 | 第22-27页 |
| ·TRL 校准方法 | 第22-25页 |
| ·利用TRL 方法仿真磁性材料 | 第25-27页 |
| ·磁膜电感的结构设计 | 第27-31页 |
| 第三章 MMIC 集成磁膜电感的制备 | 第31-46页 |
| ·NiFe-SiOx 薄膜的制备与性能 | 第31-37页 |
| ·磁控溅射 | 第32页 |
| ·NiFe-SiOx 薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·NiFe-SiOx 薄膜的性能 | 第33-37页 |
| ·磁膜电感与MMIC 集成工艺 | 第37-43页 |
| ·制备图形化NiFe-SiOx 薄膜的光刻工艺 | 第39-43页 |
| ·制备图形化NiFe-SiOx 薄膜的剥离工艺 | 第43页 |
| ·电感流水结果 | 第43-46页 |
| 第四章 MMIC 集成磁膜电感的性能与分析 | 第46-65页 |
| ·NiFe-SiOx 磁膜电感微波性能测试原理 | 第46-48页 |
| ·SOLT 校准原理 | 第46-47页 |
| ·电感微波性能测试方法 | 第47-48页 |
| ·NiFe-SiOx 磁膜电感微波性能测试结果与分析 | 第48-61页 |
| ·复合型磁膜电感 | 第48-54页 |
| ·夹心多层型磁膜电感 | 第54-60页 |
| ·两种类型磁膜电感的对比 | 第60-61页 |
| ·NiFe-SiOx 磁膜电感的模型 | 第61-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第73-74页 |