| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 离子液体 | 第13-18页 |
| 1.2.1 离子液体的定义 | 第13-14页 |
| 1.2.2 离子液体的分类 | 第14-15页 |
| 1.2.3 离子液体的特点 | 第15-18页 |
| 1.3 离子液体的应用 | 第18-21页 |
| 1.3.1 离子液体在电化学领域的应用 | 第18页 |
| 1.3.2 离子液体在电沉积金属中的应用 | 第18-21页 |
| 1.3.2.1 第一类离子液体中金属的电沉积 | 第19-20页 |
| 1.3.2.2 第二类离子液体中金属的电沉积 | 第20-21页 |
| 1.3.2.3 第三类离子液体中金属的电沉积 | 第21页 |
| 1.4 电沉积铬镀层的发展与研究现状 | 第21-23页 |
| 1.4.1 六价铬体系中电沉积铬镀层的发展与研究现状 | 第21-22页 |
| 1.4.2 三价铬体系中电沉积铬镀层的发展与研究现状 | 第22页 |
| 1.4.3 离子液体体系中三价铬电沉积的发展与研究现状 | 第22-23页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容与意义 | 第23-25页 |
| 第二章 [EMIM]PF_6离子液体中三价铬电沉积铬镀层的工艺与机理研究 | 第25-45页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 离子液体的合成 | 第25-27页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第26页 |
| 2.2.3 [EMIM]PF_6离子液体的合成 | 第26-27页 |
| 2.2.4 [EMIM]BF_6离子液体的红外光谱 | 第27页 |
| 2.3 实验研究方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 电解液的配制 | 第27页 |
| 2.3.2 电化学测试 | 第27-28页 |
| 2.3.3 铬镀层形貌结构分析 | 第28页 |
| 2.3.4 电沉积实验方法及基本工艺参数 | 第28页 |
| 2.3.5 镀层分析方法 | 第28-29页 |
| 2.3.5.1 镀层厚度 | 第28-29页 |
| 2.3.5.2 电沉积速率 | 第29页 |
| 2.4 [EMIM]PF6离子液体中三价铬的还原机理 | 第29-41页 |
| 2.4.1 循环伏安研究 | 第29-33页 |
| 2.4.2 交流阻抗研究 | 第33-36页 |
| 2.4.3 线性扫描研究 | 第36-37页 |
| 2.4.4 恒电流阶跃研究 | 第37-38页 |
| 2.4.5 三价铬在[EMIM]PF_6离子液体体系中的电结晶机理 | 第38-41页 |
| 2.5 工艺条件对[EMIM]PF_6离子液体中三价铬电沉积的影响 | 第41-43页 |
| 2.5.1 电流密度对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| 2.5.2 温度对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| 2.5.3 时间对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第43页 |
| 2.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第三章 [EMIM]HS04离子液体中三价铬电沉积铬镀层的工艺与机理研究 | 第45-66页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 离子液体的合成 | 第45-46页 |
| 3.2.1 [EMIM]HSO_4离子液体的合成 | 第45-46页 |
| 3.2.2 [EMIM]HSO_4离子液体的红外光谱 | 第46页 |
| 3.3 实验研究方法 | 第46-48页 |
| 3.3.1 电解液的配置 | 第46页 |
| 3.3.2 电化学测试 | 第46-47页 |
| 3.3.3 铬镀层形貌结构分析 | 第47页 |
| 3.3.4 电沉积实验方法及基本工艺参数 | 第47页 |
| 3.3.5 镀层分析方法 | 第47-48页 |
| 3.3.5.1 镀层厚度 | 第47页 |
| 3.3.5.2 电沉积速率 | 第47页 |
| 3.3.5.3 耐腐蚀性测试 | 第47-48页 |
| 3.4 [EMIM]HSO4离子液体中三价铬的还原机理 | 第48-61页 |
| 3.4.1 循环伏安研究 | 第48-53页 |
| 3.4.2 交流阻抗研究 | 第53-56页 |
| 3.4.3 线性扫描研究 | 第56-57页 |
| 3.4.4 恒电流阶跃研究 | 第57-58页 |
| 3.4.5 三价铬在[EMIM]HSO_4离子液体体系中的电结晶行为 | 第58-61页 |
| 3.5 工艺条件对[EMIM]HSO_4离子液体中三价铬电沉积的影响 | 第61-64页 |
| 3.5.1 电流密度对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第61-62页 |
| 3.5.2 温度对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第62-63页 |
| 3.5.3 时间对铬镀层厚度及电沉积速率的影响 | 第63-64页 |
| 3.5.4 镀层的电化学性能比较 | 第64页 |
| 3.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 第四章 结论和展望 | 第66-69页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-80页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文及其他成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
