| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| CONTENTS | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·光学薄膜的发展与研究概况 | 第10-13页 |
| ·光学薄膜的发展历程 | 第11-12页 |
| ·光学薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·TiO_2概论 | 第13-14页 |
| ·光导管概论 | 第14-16页 |
| ·光导管材料与TiO_2薄膜光学性能 | 第16-19页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第19-23页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第19-20页 |
| ·物理气相沉积法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·薄膜制备方法的选择 | 第21-23页 |
| ·光导管制造和蚀刻概论 | 第23-24页 |
| ·薄膜密度的计算理论 | 第24-25页 |
| ·研究目的与意义 | 第25-26页 |
| 第二章 实验设计 | 第26-38页 |
| ·实验的方案设计 | 第27-28页 |
| ·薄膜制备 | 第28-31页 |
| ·实验仪器结构与工作原理 | 第28-30页 |
| ·反应气体与单体原料 | 第30-31页 |
| ·TiO_2薄膜表征以及光特性测试 | 第31-37页 |
| ·椭圆偏振光谱仪 | 第31-32页 |
| ·红外吸收光谱仪 | 第32-34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·原子力显微镜 | 第35-36页 |
| ·探针轮廓仪 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 偏压对TiO_2薄膜制备工艺、性能和结构的影响 | 第38-50页 |
| ·偏置电压对沉积速率的影响 | 第38-40页 |
| ·偏置电压对薄膜密度的影响 | 第40-42页 |
| ·偏置电压对薄膜光学特性的影响 | 第42-46页 |
| ·TiO_2薄膜结构 | 第46-48页 |
| ·TiO_2薄膜微观形貌 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 蚀刻与光导管的制造探索性研究 | 第50-57页 |
| ·蚀刻薄膜实验 | 第50-53页 |
| ·蚀刻后薄膜样品的表面形貌 | 第53-55页 |
| ·TiO_2与SiO_2复合薄膜 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 全文结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |