氧化钒薄膜的制备及其光学性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 钒的氧化物 | 第9-12页 |
| 1.1.1 三氧化二钒（V_2O_3） | 第9-10页 |
| 1.1.2 二氧化钒（VO_2） | 第10-12页 |
| 1.1.3 五氧化二钒（V_2O_5 ） | 第12页 |
| 1.2 氧化钒薄膜的应用 | 第12-13页 |
| 1.2.1 应用于红外探测器 | 第12-13页 |
| 1.2.2 应用于光开关 | 第13页 |
| 1.2.3 应用于智能窗 | 第13页 |
| 1.3 氧化钒薄膜制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 蒸发法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| 1.3.3 磁控溅射法 | 第14-15页 |
| 1.4 氧化钒薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.5 本论文主要内容 | 第17-18页 |
| 2 氧化钒薄膜的表征方法 | 第18-22页 |
| 2.1 X射线衍射仪（XRD） | 第18-19页 |
| 2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第19-20页 |
| 2.3 原子力显微镜（AFM） | 第20-21页 |
| 2.4 紫外-可见分光光度计 | 第21-22页 |
| 3 热氧化法制备氧化钒薄膜及其性能研究 | 第22-39页 |
| 3.1 实验仪器及实验原材料 | 第22页 |
| 3.2 实验方案及制备 | 第22-24页 |
| 3.3 金属钒薄膜性能分析 | 第24-28页 |
| 3.3.1 金属钒薄膜物相分析 | 第24-25页 |
| 3.3.2 金属钒薄膜表面形貌分析 | 第25-26页 |
| 3.3.3 金属钒薄膜粗糙度分析 | 第26-27页 |
| 3.3.4 金属钒薄膜透过率分析 | 第27-28页 |
| 3.4 金属钒薄膜热氧化处理 | 第28-37页 |
| 3.4.1 氧化钒薄膜物相分析 | 第28-29页 |
| 3.4.2 氧化钒薄膜表面形貌分析 | 第29-31页 |
| 3.4.3 氧化钒薄膜粗糙度分析 | 第31-33页 |
| 3.4.4 氧化钒薄膜透过率分析 | 第33-35页 |
| 3.4.5 透过率对比因子 | 第35-37页 |
| 3.4.6 相变温度 | 第37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 4 直流反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜及其性能研究 | 第39-45页 |
| 4.1 实验方案及制备 | 第39-40页 |
| 4.2 氧化钒薄膜性能分析 | 第40-44页 |
| 4.2.1 氧化钒薄膜表面形貌分析 | 第40-41页 |
| 4.2.2 氧化钒薄膜透过率分析 | 第41-42页 |
| 4.2.3 透过率对比因子 | 第42-43页 |
| 4.2.4 相变温度 | 第43-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
