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室温NiFe/BaTiO3/La0.7Sr0.3MnO3多铁隧道结的制备与性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 铁电、铁磁、多铁材料概述第10-15页
        1.2.1 铁电材料第10-12页
        1.2.2 铁磁材料第12-13页
        1.2.3 多铁材料第13-15页
    1.3 隧道结种类及其工作原理第15-21页
        1.3.1 磁性隧道结第16-18页
        1.3.2 铁电隧道结第18-20页
        1.3.3 多铁隧道结第20-21页
    1.4 本论文工作内容、目的和意义第21-23页
第二章 样品薄膜的制备及表征方法第23-36页
    2.1 激光分子束外延技术第23-28页
        2.1.1 激光脉冲沉淀技术(PLD)第23-26页
        2.1.2 反射高能电子衍射仪第26-28页
    2.2 扫描探针显微镜第28-30页
        2.2.1 原子力显微镜第28-29页
        2.2.2 压电力显微镜第29-30页
    2.3 隧道结微加工方法第30-34页
        2.3.1 光刻工艺流程简介第30-32页
        2.3.2 离子束刻蚀系统第32-33页
        2.3.3 其他辅助微加工方法第33-34页
    2.4 薄膜结构合磁电性能表征方法第34-36页
        2.4.1 X射线衍射第34页
        2.4.2 磁电性能表征第34-36页
第三章 隧道结各层薄膜的制备与性能表征第36-57页
    3.1 -TiO_2终结面SrTiO_3衬底处理第36-40页
        3.1.1 钙钛矿氧化物第36-37页
        3.1.2 SrTiO_3概述第37-38页
        3.1.3 -TiO_2终结面SrTiO_3衬底处理第38-40页
    3.2 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的生长和性能表征第40-47页
        3.2.1 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3 (LSMO)靶材的烧制第40-41页
        3.2.2 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3在不同氧分压下的生长第41-45页
        3.2.3 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3在不同衬底温度下的生长第45-47页
    3.3 6单原子层(uc)超薄BaTiO_3铁电薄膜的制备与表征第47-55页
        3.3.1 6单原子层超薄BaTiO_3铁电薄膜的制备第48-49页
        3.3.2 超薄BaTiO_3的XRD表征第49-50页
        3.3.3 超薄BaTiO_3的回线表征第50-51页
        3.3.4 超薄BaTiO_3的写畴测试第51-52页
        3.3.5 超薄BaTiO_3的保持性能测试第52-54页
        3.3.6 BTO铁电层对铁磁层LSMO的影响第54-55页
    3.4 本章小结第55-57页
第四章 多铁隧道结的制备、加工与测试第57-67页
    4.1 引言第57-59页
    4.2 多铁隧道结的制备与性能表征第59-66页
        4.2.1 多铁隧道结制备方法第59-60页
        4.2.2 NiFe/BaTiO_3/La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3多铁隧道结的制备第60-62页
        4.2.3 NiFe/BaTiO_3/La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3多铁隧道结的表征第62-66页
    4.3 本章小结第66-67页
第五章 总结与展望第67-69页
    5.1 论文总结第67-68页
    5.2 工作展望第68-69页
参考文献第69-75页
致谢第75-76页
附录 个人简历与攻读硕士学位期间发表的论文第76-77页
    个人简历第76-77页
    攻读硕士学位期间发表的论文第77页

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