熔石英光学元件表面微区离子束修饰技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.1 国外研究情况 | 第10-11页 |
| 1.2.2 国内的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 元件表面处理技术 | 第12-14页 |
| 1.4 论文选题依据 | 第14-15页 |
| 1.5 论文研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 离子束刻蚀技术及仿真 | 第16-30页 |
| 2.1 离子束刻蚀技术的发展 | 第16-17页 |
| 2.2 离子束溅射理论基础 | 第17-20页 |
| 2.3 利用TRIM软件模拟优化离子束刻蚀参数 | 第20-28页 |
| 2.3.1 对离子束入射角度的优化 | 第21-24页 |
| 2.3.2 对离子束能量的优化 | 第24-26页 |
| 2.3.3 Ar离子浓度随刻蚀深度的变化 | 第26-27页 |
| 2.3.4 DPA随刻蚀深度的变化 | 第27-28页 |
| 2.3.5 束流密度的优化 | 第28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第三章 K9玻璃表面光学膜层去除工艺 | 第30-44页 |
| 3.1 实验过程及参数设定 | 第30-31页 |
| 3.2 样品准备及刻蚀速率的测定 | 第31-32页 |
| 3.3 常用表征仪器 | 第32-33页 |
| 3.4 离子束刻蚀参数的优化 | 第33-43页 |
| 3.4.1 离子束入射角度的优化 | 第33-36页 |
| 3.4.2 离子束束流密度的优化 | 第36-39页 |
| 3.4.3 离子束能量优化 | 第39-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 石英元件表面三倍频膜去除工艺 | 第44-52页 |
| 4.1 三倍频膜增透原理及其损伤机理 | 第44-45页 |
| 4.2 实验工艺流程和离子束参数设定 | 第45页 |
| 4.3 样品表征结果及其分析 | 第45-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 熔石英元件修复区表面微修整形工艺 | 第52-62页 |
| 5.1 现有处理技术及其对比 | 第52-53页 |
| 5.2 物理模型构建 | 第53-54页 |
| 5.3 离子束刻蚀参数的分析 | 第54页 |
| 5.4 修复区微修形工艺实验 | 第54-61页 |
| 5.4.1 修复区烧蚀去除工艺实验 | 第54-57页 |
| 5.4.2 修复区凸起圆环去除工艺实验 | 第57-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
