| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·钼的应用与发展前景 | 第10-12页 |
| ·钼的主要物理性质 | 第10-11页 |
| ·钼在汽车工业中的应用与前景 | 第11-12页 |
| ·钼基体表面涂层的研究现状 | 第12-15页 |
| ·涂层体系的选择 | 第12-14页 |
| ·涂层的制备工艺 | 第14-15页 |
| ·MoSi_2涂层的氧化机理 | 第15页 |
| ·二硅化钼基复合涂层 | 第15-18页 |
| ·二硅化钼概述 | 第15-16页 |
| ·二硅化钼的氧化性能 | 第16页 |
| ·二硅化钼涂层的制备方法 | 第16-17页 |
| ·二硅化钼作为涂层材料应用的限制 | 第17-18页 |
| ·本文研究意义与主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 实验内容与方法 | 第20-25页 |
| ·实验原材料与设备 | 第20-21页 |
| ·实验原料 | 第20页 |
| ·主要实验设备 | 第20-21页 |
| ·实验方法 | 第21-25页 |
| ·技术路线 | 第21页 |
| ·扩散副的制备 | 第21-22页 |
| ·相对密度的测试 | 第22-23页 |
| ·等温时效扩散实验 | 第23页 |
| ·高温氧化实验 | 第23页 |
| ·材料成分及组织结构分析 | 第23-25页 |
| 第3章 MoSi_2-Si_3N_4/Mo和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的制备与性能 | 第25-32页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 | 第25-27页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 | 第25-26页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合粉末的制备 | 第26-27页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4/Mo和MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的制备与性能 | 第27-31页 |
| ·烧结温度对扩散副致密度的影响 | 第28-29页 |
| ·保温时间对扩散副致密度的影响 | 第29页 |
| ·烧结压力对扩散副致密度的影响 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 Si在MoSi_2-Si_3N_4复合涂层中的高温扩散研究 | 第32-45页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的SEM分析 | 第32-35页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4复合材料表面的SEM分析 | 第32-33页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副截面的SEM分析 | 第33-35页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 | 第35-44页 |
| ·Si在MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层的扩散模型 | 第36-38页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 | 第38-40页 |
| ·Si扩散系数和扩散激活能的计算 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 Si在钼基Mo-W-Si-N系复合涂层中的高温扩散研究 | 第45-58页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副的SEM分析 | 第45-50页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4复合材料表面的SEM分析 | 第45-47页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副截面的SEM分析 | 第47-50页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 | 第50-55页 |
| ·MoSi_2-WSi_2-Si_3N_4/Mo扩散副中间层硅化物的生长动力学 | 第50-52页 |
| ·Si扩散系数和扩散激活能的计算 | 第52-55页 |
| ·(Mo,W)Si_2-Si_3N_4复合材料在 1450℃下的高温氧化性能 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 结论与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历 | 第65-66页 |
