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掺杂立方氮化硼的第一性原理计算

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第1章 绪论第11-18页
   ·稀磁半导体的研究进展第11-12页
     ·稀磁半导体的概念第11页
     ·稀磁半导体的性能第11页
     ·稀磁半导体的应用第11-12页
   ·cBN的研究进展第12-16页
     ·cBN的研究现状第12-13页
     ·氮化硼材料的不同结构第13-14页
     ·cBN结构及物化性质第14-16页
   ·cBN研究热点和难点第16-18页
     ·cBN研究热点第16页
     ·cBN研究的难点第16页
     ·本文研究的创新点第16-18页
第2章 计算方法和模型构建第18-23页
   ·理论依据及计算方法第18-21页
   ·探究体系结构稳定性的依据第21-22页
   ·采用的软件和模型的建立第22-23页
第3章 单掺杂BN的第一性原理计算第23-30页
   ·本征态BN能带结构和态密度分析第23-24页
   ·Li单掺杂BN体系的能带结构和态密度分析第24-26页
   ·Na单掺杂BN体系的能带结构和态密度分析第26-27页
   ·K单掺杂BN体系的能带结构和态密度分析第27-29页
   ·单掺杂BN体系的的稳定性分析第29页
   ·本章小结第29-30页
第4章 共掺杂BN的第一性原理计算第30-40页
   ·Li-O共掺BN体系第30-32页
     ·BN(Li,O)体系的电子结构分析第31-32页
     ·BN(Li,O) 体系的稳定性分析第32页
     ·小结第32页
   ·Na-O共掺BN体系第32-35页
     ·BN(Na,O)体系的电子结构分析第33-35页
     ·BN(Na,O)体系的稳定性分析第35页
     ·小结第35页
   ·K-O共掺BN体系第35-39页
     ·BN(K,O)体系的电子结构分析第36-38页
     ·BN(K,O)体系的稳定性分析第38页
     ·小结第38-39页
   ·本章小结第39-40页
总结及展望第40-42页
 总结第40-41页
 展望第41-42页
参考文献第42-45页
致谢第45-46页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第46页

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