大尺寸硅片超精密磨床清洗系统动态仿真及实验研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题研究的背景 | 第9-12页 |
| ·硅片清洗工艺简介 | 第9-11页 |
| ·本课题研究的背景 | 第11-12页 |
| ·硅片清洗系统的研究现状 | 第12-15页 |
| ·硅片清洗系统工作方式 | 第12-13页 |
| ·硅片清洗系统的发展状况 | 第13-15页 |
| ·清洗系统动态仿真研究的意义 | 第15-17页 |
| ·动态仿真研究的意义 | 第15-16页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 清洗系统工作原理及结构分析 | 第17-27页 |
| ·硅片清洗基本原理 | 第18-21页 |
| ·硅片和吸盘清理系统的工作原理 | 第18-20页 |
| ·旋转喷淋系统的工作原理 | 第20-21页 |
| ·硅片和吸盘清理系统的结构分析 | 第21-24页 |
| ·移动进给系统 | 第21-22页 |
| ·旋转进给系统 | 第22-23页 |
| ·清洗刷系统 | 第23-24页 |
| ·旋转喷淋系统的结构分析 | 第24-26页 |
| ·清洗喷头系统 | 第24-25页 |
| ·清洗罩壳系统 | 第25页 |
| ·硅片旋转系统 | 第25-26页 |
| 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 磨床清洗系统虚拟样机的开发 | 第27-49页 |
| ·清洗系统的虚拟装配 | 第27-31页 |
| ·清洗系统的建模 | 第27-29页 |
| ·虚拟装配的关键技术 | 第29-31页 |
| ·磨床清洗系统虚拟样机的开发 | 第31-40页 |
| ·清洗系统虚拟样机的开发工具 | 第31-32页 |
| ·清洗系统虚拟样机的开发 | 第32-36页 |
| ·虚拟样机开发的环境设置 | 第36-40页 |
| ·动态仿真的实现 | 第40-48页 |
| ·相关功能代码的编译 | 第40-42页 |
| ·计算机三维图形变换 | 第42-46页 |
| ·帧数控制技术 | 第46-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 清洗工艺参数分析 | 第49-55页 |
| ·硅片表面清洗度的测量 | 第49-50页 |
| ·硅片表面清洗度 SIMS 测量法 | 第49-50页 |
| ·硅片表面清洗度接触角测量法 | 第50页 |
| ·影响硅片清洗度的清洗工艺参数 | 第50-54页 |
| ·硅片刷的转速对清洗度的影响 | 第51-52页 |
| ·硅片转速对清洗度的影响 | 第52-53页 |
| ·清洗液喷速对清洗度的影响 | 第53-54页 |
| 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
