学位论文版权使用授权书 | 第1-4页 |
同济大学学位论文原创性声明 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-13页 |
第1章 引言 | 第13-20页 |
·选题依据和背景(纳米科技及其战略地位) | 第13-14页 |
·纳米压印技术的兴起 | 第14-17页 |
·纳米压印技术溯源 | 第14-15页 |
·纳米压印复型精度研究现状 | 第15-17页 |
·纳米压印复型精度影响因素 | 第17-18页 |
·论文的主要工作及体系结构 | 第18-20页 |
第2章 纳米压印技术原理和工艺 | 第20-28页 |
·纳米压印技术原理 | 第20页 |
·纳米压印常用工艺 | 第20-26页 |
·软压印工艺(SIL) | 第20-22页 |
·热压印工艺(HEL) | 第22-23页 |
·冷压印工艺(RTIL) | 第23-26页 |
·纳米压印工艺比较 | 第26-28页 |
第3章 调平对准用二级驱动高精密定位系统及精度控制 | 第28-74页 |
·调平和对准机理、作用及系统组成 | 第28-29页 |
·精密定位技术 | 第29-32页 |
·二级驱动精密定位系统构建 | 第32-45页 |
·宏动系统 | 第32-35页 |
·微动系统 | 第35-36页 |
·微位移驱动器及误差因素分析 | 第36-38页 |
·柔性传动机构 | 第38-44页 |
·微位移检测 | 第44-45页 |
·二级驱动精密定位系统动力学建模分析 | 第45-50页 |
·直线电机建模 | 第45-46页 |
·微动系统直线驱动建模 | 第46-48页 |
·二级驱动精密定位系统动力学方程 | 第48-50页 |
·二级驱动精密定位系统控制 | 第50-58页 |
·宏动级控制 | 第50-52页 |
·微动级控制 | 第52-56页 |
·二级驱动系统滑模变结构控制 | 第56-58页 |
·二级驱动定位系统精度分析 | 第58-67页 |
·微动级误差分析 | 第58-64页 |
·二级定位系统精度 | 第64-67页 |
·二级驱动精密定位系统仿真 | 第67-72页 |
·小结 | 第72-74页 |
第4章 影响压印复型精度的结构和工艺参数分析与控制 | 第74-102页 |
·模板材料及性能 | 第74-76页 |
·不同工艺的模板及抗粘连技术 | 第76-78页 |
·软压模板 | 第76页 |
·热压模板 | 第76页 |
·冷压模板 | 第76-78页 |
·冷压模板参数对压印复型精度的影响 | 第78-83页 |
·模板性能与光源匹配性 | 第78-79页 |
·模板厚度对压印复型精度的影响 | 第79-81页 |
·模板图形对压印复型精度的影响 | 第81-83页 |
·涂覆工艺 | 第83-91页 |
·涂覆理论及转移层厚度变化规律 | 第83-85页 |
·涂覆工艺参数与转移层厚度实验 | 第85-89页 |
·涂铺工艺与转移层厚度控制数学模型 | 第89-91页 |
·压印图形转移介质对压印复型精度的影响 | 第91-96页 |
·光刻胶性能对压印复型精度的影响 | 第91-94页 |
·转移层厚度对压印复型精度的影响 | 第94-96页 |
·转移层厚度均匀性及其对压印复型精度的影响 | 第96-99页 |
·转移层设计实例 | 第99-102页 |
·根据光照系统选择光刻胶 | 第99页 |
·转移层厚度设计 | 第99-100页 |
·根据转移层厚度确定涂覆工艺参数 | 第100-102页 |
第5章 纳米压印复型精度及控制试验 | 第102-118页 |
·正交试验设计及特性 | 第102-103页 |
·调平和对准对压印复型精度影响及控制试验 | 第103-108页 |
·调平和对准系统及工作原理 | 第103-106页 |
·调平和对准试验方案和试验结果分析 | 第106-108页 |
·调平和对准控制方案和压印复型精度 | 第108页 |
·结构和工艺参数对压印复型精度影响及控制试验 | 第108-113页 |
·正交表的设计 | 第109页 |
·正交试验方案和试验结果 | 第109-111页 |
·试验结果的极差分析 | 第111-113页 |
·结构和工艺参数控制方案和压印复型精度 | 第113页 |
·压印试验结果及分析 | 第113-118页 |
第6章 结论与展望 | 第118-122页 |
·结论 | 第118-120页 |
·进一步工作的方向 | 第120-122页 |
致谢 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-129页 |
个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第129页 |