碳纳米管在硅基衬底上的化学气相沉积生长研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-28页 |
| ·课题意义及背景 | 第9-10页 |
| ·国内外相关研究进展 | 第10-26页 |
| ·碳纳米管的研究进展 | 第10-12页 |
| ·碳纳米管微纳电子器件的研究进展 | 第12-20页 |
| ·碳纳米管可控生长的研究进展 | 第20-26页 |
| ·问题的提出 | 第26-27页 |
| ·主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 碳纳米管生长及器件制备工艺平台 | 第28-33页 |
| ·碳纳米管的生长工艺平台 | 第28页 |
| ·硅片的预处理工艺平台 | 第28-31页 |
| ·合成碳纳米管的催化剂制备工艺平台 | 第31-32页 |
| ·主要试剂和检测仪器 | 第32-33页 |
| ·主要试剂 | 第32页 |
| ·检测仪器 | 第32-33页 |
| 第三章 碳纳米管在硅衬底表面的垂直定向生长研究 | 第33-49页 |
| ·碳纳米管垂直衬底表面自定向生长研究概况 | 第33页 |
| ·碳纳米管在硅衬底表面定向生长实验方法 | 第33-35页 |
| ·工艺参数对碳纳米管生长的影响 | 第35-45页 |
| ·工艺参数对生长速率和平均管径的影响 | 第35-41页 |
| ·工艺参数对碳纳米管晶化的影响 | 第41-45页 |
| ·碳纳米管垂直衬底定向生长的热力学研究 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 单壁碳纳米管在硅衬底表面的生长研究 | 第49-70页 |
| ·单壁碳纳米管(SWNTs)合成概述 | 第49-50页 |
| ·单壁碳纳米管在普通硅片衬底上的生长 | 第50-56页 |
| ·实验方法 | 第51页 |
| ·实验结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·单壁碳纳米管在多孔硅衬底上的生长 | 第56-61页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·实验结果讨论 | 第58-61页 |
| ·在多孔SIO_2纳米薄膜衬底上制备单壁碳纳米管 | 第61-68页 |
| ·实验方法 | 第62-63页 |
| ·实验结果及讨论 | 第63-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第五章 基于碳纳米管的微纳电子器件的研究 | 第70-86页 |
| ·基于碳纳米管场发射的压力传感器的研究 | 第70-77页 |
| ·基于场发射的传感器研究背景 | 第70-72页 |
| ·基于碳纳米管场发射的传感器模型设计及工作原理 | 第72-73页 |
| ·定向碳纳米管薄膜场发射性能的表征 | 第73-76页 |
| ·基于碳纳米管场发射的压力传感器的工作特性 | 第76页 |
| ·前景展望 | 第76-77页 |
| ·基于碳纳米管的纳米探针的研究 | 第77-85页 |
| ·AFM扫描探针的研究背景 | 第77-83页 |
| ·碳纳米管AFM探针的试验方法 | 第83页 |
| ·碳纳米管AFM探针的性能测试 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 结论 | 第86-92页 |
| 个人简历、在站期间的研究成果及发表的论文 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
