保形光学头罩磨削抛光设备研制及其磁流变抛光基础研究
表目录 | 第1-7页 |
图目录 | 第7-9页 |
摘要 | 第9-10页 |
ABSTRACT | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第11-20页 |
·课题来源及意义 | 第11-13页 |
·课题来源 | 第11页 |
·课题研究背景和意义 | 第11-13页 |
·保形光学元件的国内外研究现状 | 第13-18页 |
·保形光学元件材料 | 第13-14页 |
·保形光学元件加工方法 | 第14-18页 |
·本课题研究内容 | 第18-20页 |
第二章 保形光学头罩磨削抛光样机研制 | 第20-35页 |
·磨削抛光机床结构设计与分析 | 第20-28页 |
·磨削抛光机床设计 | 第20-23页 |
·机床模态分析 | 第23-28页 |
·磨削抛光机床精度建模 | 第28-34页 |
·磨削机床空间误差建模 | 第28-32页 |
·理想成形函数与运动约束方程 | 第32-33页 |
·实际成形函数与运动约束方程 | 第33页 |
·空间误差模型 | 第33-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第三章 热压多晶氟化镁用磁流变液配制与测试 | 第35-42页 |
·热压多晶氟化镁磁流变抛光液性能要求 | 第35-36页 |
·热压多晶氟化镁用磁流变抛光液配制研究 | 第36-39页 |
·配制原料选择 | 第36-38页 |
·配制工艺 | 第38-39页 |
·磁流变抛光液性能测试及抛光试验 | 第39-40页 |
·流变性测试 | 第39-40页 |
·抛光测试 | 第40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
第四章 热压多晶氟化镁磁流变抛光工艺实验研究 | 第42-52页 |
·单因素工艺参数对抛光的影响 | 第42-45页 |
·热压多晶氟化镁试件准备 | 第42页 |
·单因素工艺实验研究 | 第42-45页 |
·工艺参数正交试验与优化 | 第45-51页 |
·正交试验与分析 | 第45-47页 |
·工艺参数优化 | 第47-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 凸球面磁流变抛光材料去除模型研究 | 第52-61页 |
·材料去除模型的理论分析 | 第52-56页 |
·流体动压力求解 | 第52-55页 |
·磁化压力求解 | 第55-56页 |
·去除函数试验建模 | 第56-60页 |
·去除函数试验流程 | 第56页 |
·去除函数形状试验 | 第56-58页 |
·去除函数稳定性试验 | 第58-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
·全文总结 | 第61-62页 |
·研究展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第67页 |