摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-45页 |
第一节 类金刚石薄膜概述 | 第12-29页 |
§1.1.1 DLC薄膜的组成、结构和分类 | 第12-15页 |
§1.1.2 DLC薄膜的制备 | 第15-20页 |
§1.1.3 DLC薄膜的表征 | 第20-26页 |
§1.1.4 DLC薄膜的性质和应用 | 第26-29页 |
第二节 液相电化学沉积类金刚石膜研究进展 | 第29-33页 |
§1.2.1 引言 | 第29-30页 |
§1.2.2 实验装置及基本原理 | 第30-31页 |
§1.2.3 影响电化学沉积DLC薄膜的因素 | 第31-32页 |
§1.2.4 电化学沉积DLC薄膜反应机理 | 第32页 |
§1.2.5 电化学沉积DLC薄膜发展方向 | 第32-33页 |
第三节 论文选题依据和研究内容 | 第33-35页 |
参考文献 | 第35-45页 |
第二章 场发射研究进展 | 第45-75页 |
第一节 场发射研究背景 | 第45-48页 |
§2.1.1 真空微电子学 | 第45-46页 |
§2.1.2 场发射显示器 | 第46-48页 |
第二节 电子场发射理论 | 第48-64页 |
§2.2.1 固体的功函数和表面电子发射 | 第48-50页 |
§2.2.2 金属的电子发射和FN理论 | 第50-59页 |
§2.2.3 半导体场致电子发射 | 第59-62页 |
§2.2.4 常见冷阴极材料种类 | 第62-64页 |
第三节 类金刚石薄膜的场发射 | 第64-71页 |
§2.3.1 负电子亲和势 | 第65-67页 |
§2.3.2 DLC薄膜场发射电子的传输机制 | 第67-69页 |
§2.3.3 类金刚石薄膜场发射机制模型 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
第三章 液相电沉积类金刚石薄膜及其场发射性能 | 第75-103页 |
第一节 液相电沉积类金刚石薄膜的制备 | 第76-79页 |
§3.1.1 实验装置、原料及仪器 | 第76页 |
§3.1.2 基底预处理和薄膜的制备 | 第76-78页 |
§3.1.3 实验现象 | 第78-79页 |
第二节 电化学沉积类金刚石薄膜的表征 | 第79-85页 |
第三节 电化学沉积类金刚石薄膜的机理 | 第85-90页 |
§3.3.1 基本电化学理论 | 第86页 |
§3.3.2 碳源的选择 | 第86-88页 |
§3.3.3 液相电沉积DLC薄膜机理 | 第88-90页 |
第四节 电化学沉积类金刚石薄膜场发射性质研究 | 第90-95页 |
§3.4.1 场发射测试装置 | 第91-92页 |
§3.4.2 不同电压沉积DLC膜场发射性质分析 | 第92-95页 |
第五节 本章小结 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-103页 |
第四章 电化学沉积掺氮类金刚石薄膜及其场发射性质的研究 | 第103-125页 |
第一节 掺氮类金刚石薄膜的电化学制备 | 第104-105页 |
§4.1.1 实验部分 | 第104-105页 |
§4.1.2 实验现象 | 第105页 |
第二节 电化学沉积掺氮类金刚石薄膜的表征 | 第105-112页 |
第三节 电化学沉积掺氮类金刚石薄膜的机理 | 第112页 |
第四节 电化学沉积掺氮类金刚石薄膜场发射性能研究 | 第112-117页 |
§4.4.1 不同氮含量DLC:N膜场发射性质测试 | 第114页 |
§4.4.2 不同氮含量DLC:N膜场发射性质分析 | 第114-117页 |
第五节 本章小结 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-125页 |
第五章 导电性衬底两面同时电化学沉积类金刚石薄膜 | 第125-137页 |
第一节 导电性衬底两面同时电化学沉积类金刚石薄膜实验 | 第126-127页 |
§5.1.1 基底预处理和薄膜的制备 | 第126页 |
§5.1.2 实验现象 | 第126-127页 |
第二节 导电性衬底两面沉积类金刚石薄膜的表征 | 第127-132页 |
第三节 导电性衬底两面同时沉积类金刚石薄膜原理 | 第132-133页 |
第四节 本章小节 | 第133-135页 |
参考文献 | 第135-137页 |
第六章 结语 | 第137-141页 |
·本论文主要研究内容与结论 | 第137-139页 |
·液相电化学制备DLC薄膜的发展趋势 | 第139-141页 |
攻读博士学位期间发表、待发表论文 | 第141-143页 |
致谢 | 第143页 |