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热丝化学气相沉积制备硅氢薄膜及其性质的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第一章 绪论第11-30页
   ·光伏发电是一种可再生能源第11-12页
   ·光伏技术的发展第12-14页
   ·光伏技术与薄膜太阳能电池第14-27页
     ·光伏发电原理第14-15页
     ·光伏材料第15-16页
     ·硅太阳能电池第16-21页
     ·硅基薄膜太阳电池新进展第21-27页
 参考文献第27-30页
第二章 热丝化学气相沉积技术极其在太阳能电池中的应用第30-50页
     ·热丝化学气相沉积的发展第30-31页
   ·热丝化学气相沉积原理第31-39页
     ·气体与热丝的反应第32-33页
     ·基元与硅烷的反应第33-34页
     ·基元之间的相互反应第34-35页
     ·生长薄膜表面反应第35-39页
   ·HWCVD在光伏工业上的优势第39-40页
   ·热丝的选择及其寿命第40-42页
   ·HWCVD的近期研究工作第42-43页
   ·HWCVD制备太阳能电池第43页
   ·本论文研究目的和研究内容第43-45页
     ·研究目的第43-44页
     ·研究内容和创新点第44-45页
 参考文献第45-50页
第三章 实验仪器与测试方法第50-59页
   ·实验仪器HWCVD第50页
   ·热丝预处理第50-51页
     ·衬底的选择与处理第51-52页
   ·薄膜的表征方法第52-58页
     ·X射线衍射(XRD)第52-53页
     ·傅立叶变换红外(FT-IR)光谱第53-54页
     ·拉曼光谱(Raman)第54页
     ·紫外-可见(UV-VIS)分光光度计第54-55页
     ·场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)第55-56页
     ·纳米划痕仪(Nano Scratch Testing)第56-58页
 参考文献第58-59页
第四章 硅烷浓度、衬底距离对薄膜生长的影响第59-68页
   ·薄膜的制备与测试条件第60页
   ·硅烷浓度对薄膜生长及结晶性的影响第60-63页
   ·研究热丝到衬底的距离对薄膜生长和结晶性的影响第63-65页
   ·结论第65-67页
 参考文献第67-68页
第五章 氢基元概率分布模型第68-85页
   ·薄膜制备第69-70页
     ·实验结果及分析第70-80页
     ·Raman散射光谱研究第70-72页
     ·XRD光谱研究第72-73页
     ·温度场的模拟第73-76页
       ·H基元的概率分布模型第76-78页
       ·总结第78-80页
 参考文献第80-85页
第六章 衬底温度对薄膜生长及性质的影响第85-98页
   ·制备条件第86页
     ·实验结果及分析第86-96页
     ·Raman散射光谱研究第86-88页
     ·FTIR光谱研究第88-90页
     ·SEM第90-92页
     ·紫外-可见光谱的研究第92-93页
     ·电学性质第93-94页
     ·总结第94-96页
 参考文献第96-98页
第七章 衬底对薄膜生长及性质的影响第98-109页
   ·实验细节第98-99页
   ·实验结果及分析第99-107页
     ·XRD第99页
     ·Raman第99-101页
     ·SEM第101-102页
     ·划痕实验第102-105页
     ·FTIR光谱研究第105页
     ·总结第105-107页
 参考文献第107-109页
第八章 总结与展望第109-113页
   ·本论文的主要结论第109-111页
   ·下一步工作展望第111-113页
致谢第113-114页
在读期间的研究成果第114-115页

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