| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题来源及选题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 弹性小型磨具抛光的发展现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 加工轨迹的发展现状 | 第12-13页 |
| 1.3 SIMOTION运动控制系统概述 | 第13-14页 |
| 1.4 论文的主要内容 | 第14-17页 |
| 2 抛光去除机理与去除区域计算 | 第17-25页 |
| 2.1 抛光加工流程 | 第17-18页 |
| 2.2 小型磨具抛光材料去除机理 | 第18-20页 |
| 2.3 抛光点接触区域计算 | 第20-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 回转对称非球面抛光路径的仿真分析 | 第25-39页 |
| 3.1 去除区域的仿真建模 | 第25-28页 |
| 3.2 抛光轨迹优化分析 | 第28-33页 |
| 3.3 抛光路径规划 | 第33-34页 |
| 3.4 弹性接触变化分析 | 第34-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 4 SIMOTION控制系统设计 | 第39-57页 |
| 4.1 控制功能需求分析 | 第39-40页 |
| 4.2 控制方案选择 | 第40页 |
| 4.3 系统硬件 | 第40-46页 |
| 4.3.1 西门子运动控制器C240 | 第41-42页 |
| 4.3.2 西门子 1FK7032-2AK71-1 同步伺服电机简介 | 第42-43页 |
| 4.3.3 西门子SINAMICS S120驱动器概述 | 第43页 |
| 4.3.4 位移测量器 | 第43-44页 |
| 4.3.5 硬件组态及接线图 | 第44-46页 |
| 4.4 控制系统软件设计及实现 | 第46-53页 |
| 4.4.1 SIMOTION SCOUT工程软件简介 | 第46-47页 |
| 4.4.2 SIMOTION SCOUT编程语言简介 | 第47-48页 |
| 4.4.3 运动程序设计 | 第48-50页 |
| 4.4.4 上位机人机界面设计 | 第50-53页 |
| 4.5 SIMOTION系统调试 | 第53-55页 |
| 4.5.1 单轴精度测试 | 第53-54页 |
| 4.5.2 双轴同步精度测试 | 第54-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 5 抛光轨迹优化实验与验证 | 第57-65页 |
| 5.1 实验平台简介与实验设计 | 第57-58页 |
| 5.2 轨迹行距优化 | 第58-62页 |
| 5.3 实验设计与结果对比分析 | 第62-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 6 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 工作总结 | 第65页 |
| 6.2 工作展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 作者在研究生学习阶段发表论文 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
