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FHXD场效应管产品降低内阻值项目研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-15页
    1.1 课题提出的背景及意义第9-10页
    1.2 课题研究现状第10-12页
    1.3 课题研究理论基础第12-13页
        1.3.1 田口方法介绍第12页
        1.3.2 系统设计介绍第12页
        1.3.3 参数设计介绍第12-13页
        1.3.4 容差设计介绍第13页
    1.4 课题研究思路第13-14页
    1.5 课题研究目标第14-15页
第二章 研究问题描述第15-22页
    2.1 半导体封装简介第15-17页
        2.1.1 封装的作用和要求第15-16页
        2.1.2 半导体封装形式第16页
        2.1.3 封装工艺流程第16-17页
    2.2 产品内阻偏高情况介绍第17-18页
    2.3 场效应管内阻的产生第18-19页
    2.4 封装对场效应管内阻偏高的影响因素第19-21页
    2.5 本章小结第21-22页
第三章 田口方法在封装工艺选定中的应用第22-34页
    3.1 影响产品内阻结果的因子分类第22-23页
    3.2 因子与水平的确定第23-33页
        3.2.1 可控因子与水平参数的确定第23-32页
        3.2.2 噪声因子与水平参数的确定第32-33页
    3.3 本章小结第33-34页
第四章 运用田口方法进行参数设计与分析第34-51页
    4.1 参数设计的两步法则第34-41页
        4.1.1 稳健性设计第34-37页
        4.1.2 灵敏度设计第37-40页
        4.1.3 综合噪声因子第40-41页
    4.2 参数设计与分析第41-50页
        4.2.1 构建正交表第41-42页
        4.2.2 实验结果第42-43页
        4.2.3 信噪比分析第43-44页
        4.2.4 统计分析第44-49页
        4.2.5 灵敏度分析第49-50页
    4.3 本章小结第50-51页
第五章 验证试验和经济效益评估第51-55页
    5.1 验证实验第51页
    5.2 经济效益评估第51-54页
    5.3 本章小结第54-55页
第六章 结论与展望第55-57页
    6.1 结论第55页
    6.2 展望第55-57页
参考文献第57-59页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第59-60页
致谢第60-61页
附件第61页

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