| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| 1.1 长余辉发光材料 | 第11-23页 |
| 1.1.1 长余辉材料简介及发展 | 第11-13页 |
| 1.1.2 长余辉材料的研究与应用现状 | 第13-15页 |
| 1.1.3 硅酸盐体系长余辉材料的分类 | 第15-18页 |
| 1.1.4 硅酸盐体系长余辉材料的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.1.5 Eu~(2+)硅酸盐体系长余辉材料发光机理 | 第20-23页 |
| 1.2 长余辉发光薄膜 | 第23-25页 |
| 1.2.1 长余辉发光薄膜简介 | 第23页 |
| 1.2.2 长余辉发光薄膜的制备方法 | 第23-24页 |
| 1.2.3 长余辉发光薄膜的应用前景 | 第24-25页 |
| 1.2.4 复合发光薄膜 | 第25页 |
| 1.3 图案化发光薄膜 | 第25-29页 |
| 1.3.1 图案化发光薄膜简介 | 第25页 |
| 1.3.2 图案化发光薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| 1.3.3 图案化发光薄膜的应用前景 | 第28-29页 |
| 1.3.4 图案化复合发光薄膜 | 第29页 |
| 1.4 本文的研究意义和主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 (Sr,Ca)_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉粉体的制备与表征 | 第31-40页 |
| 2.1 引言 | 第31页 |
| 2.2 实验原料与仪器 | 第31-32页 |
| 2.3 实验方法 | 第32-33页 |
| 2.3.1 (Sr,Ca)_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)粉体的制备 | 第32页 |
| 2.3.2 表征方法 | 第32-33页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 2.4.1 X射线衍射（XRD）测试分析 | 第33-34页 |
| 2.4.2 X射线光电子能谱（XPS）测试分析 | 第34-35页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜（SEM）测试分析 | 第35-36页 |
| 2.4.4 光致发光光谱分析 | 第36-38页 |
| 2.4.5 余辉衰减分析 | 第38-40页 |
| 第三章 PLA/Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉复合薄膜的制备与表征 | 第40-49页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验原料与仪器 | 第40-41页 |
| 3.3 实验方法 | 第41-43页 |
| 3.3.1 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)粉体的表面改性 | 第41-42页 |
| 3.3.2 基底的预处理 | 第42页 |
| 3.3.3 薄膜的制备 | 第42页 |
| 3.3.4 表征方法 | 第42-43页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第43-49页 |
| 3.4.1 傅里叶红外光谱（FT-IR）测试分析 | 第43页 |
| 3.4.2 紫外可见光谱测试分析 | 第43-44页 |
| 3.4.3 扫描电子显微镜（SEM）测试分析 | 第44-45页 |
| 3.4.4 荧光显微分析 | 第45-46页 |
| 3.4.5 光致发光光谱分析 | 第46-47页 |
| 3.4.6 余辉衰减分析 | 第47-49页 |
| 第四章 图案化SOG/Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉复合薄膜的制备与表征 | 第49-58页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验原料与仪器 | 第49-50页 |
| 4.3 实验方法 | 第50-52页 |
| 4.3.1 基底的预处理 | 第50页 |
| 4.3.2 薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 4.3.3 表征方法 | 第51-52页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第52-58页 |
| 4.4.1 傅里叶红外光谱（FT-IR）测试分析 | 第52页 |
| 4.4.2 紫外可见光谱测试分析 | 第52-53页 |
| 4.4.3 扫描电子显微镜（SEM）测试分析 | 第53-54页 |
| 4.4.4 荧光显微分析 | 第54-56页 |
| 4.4.5 光致发光光谱分析 | 第56页 |
| 4.4.6 余辉衰减分析 | 第56-58页 |
| 第五章 全文总结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-69页 |
| 攻读硕士学位期间本人公开发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
