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Cu-Ce-O_x系列催化剂低温催化氧化CO性能研究

摘要第6-8页
ABSTRACT第8-10页
第一章 引言第14-28页
    1.1 研究背景第14-16页
        1.1.1 CO的来源及危害第14-15页
        1.1.2 当前CO害化技术途径第15-16页
    1.2 CO催化氧化技术的研究价值第16页
    1.3 CO催化氧化机理第16-17页
    1.4 CO催化氧化催化剂研究进展第17-20页
        1.4.1 贵金属催化剂第18-19页
        1.4.2 非贵金属催化剂第19-20页
    1.5 铜基催化剂的合成方法第20-23页
        1.5.1 共沉淀法第20-21页
        1.5.2 浸渍法第21页
        1.5.3 沉积沉淀法第21页
        1.5.4 溶胶凝胶法第21-22页
        1.5.5 表面活性剂辅助合成第22页
        1.5.6 其他方法第22-23页
    1.6 铜基催化剂的影响因素第23-24页
        1.6.1 制备方法的影响第23页
        1.6.2 载体的影响第23-24页
        1.6.3 Cu的组成与掺杂原子的影响第24页
    1.7 立题依据和研究内容第24-28页
        1.7.1 立题依据第24-25页
        1.7.2 研究内容第25页
        1.7.3 论文创新点第25-28页
第二章 实验部分第28-34页
    2.1 实验器材第28-30页
        2.1.1 实验所需试剂信息第28页
        2.1.2 实验所需仪器、器材信息第28-29页
        2.1.3 实验所需气体第29-30页
    2.2 催化剂制备第30页
        2.2.1 软模板法制备Cu-Ce-O_x系列催化剂第30页
        2.2.2 共沉淀法制备Cu-Ce-O_x以及Cu-Ce-Cr-O_x系列催化剂第30页
    2.3 催化剂活性及稳定性评价第30-31页
    2.4 催化剂表征第31-34页
        2.4.1 X射线衍射(XRD)的测定第31页
        2.4.2 N_2吸脱附测定第31-32页
        2.4.3 X-射线光电子能谱(XPS)的测定第32页
        2.4.4 透射电子显微镜(TEM)测试第32页
        2.4.5 程序升温还原(H_2-TPR)的测定第32-34页
第三章 P123对Cu-Ce-O_x催化剂结构及性能的影响研究第34-44页
    3.1 研究思路第34页
    3.2 结果与讨论第34-42页
        3.2.1 不同Cu-Ce-O_x催化剂的物相结构第34-35页
        3.2.2 不同Cu-Ce-O_x催化剂CO催化氧化性能第35-36页
        3.2.3 催化剂的织构性质第36-38页
        3.2.4 TEM结果第38-39页
        3.2.5 H_2-TPR结果第39-40页
        3.2.6 XPS结果第40-42页
    3.3 本章小结第42-44页
第四章 沉淀剂或Cr掺杂对Cu-Ce-O_x催化剂催化性能的影响第44-52页
    4.1 研究思路第44页
    4.2 催化剂活性评价结果第44-45页
    4.3 催化剂表征结果第45-50页
        4.3.1 XRD分析第45-46页
        4.3.2 氮气吸脱附测试第46-48页
        4.3.3 XPS分析第48-49页
        4.3.4 H_2-TPR分析第49-50页
    4.4 本章小结第50-52页
第五章 结论与展望第52-54页
    5.1 结论第52页
    5.2 展望第52-54页
参考文献第54-60页
附录A 硕士研究生期间研究成果第60页
附录B 硕士研究生期间参与的科研项目第60-62页
致谢第62页

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